光刻机|ASML再遭重击，美国芯片也舍弃EUV光刻机，中国芯片成救命稻草芯片|极紫外光刻|阿斯麦尔|i

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外媒报道指美国芯片企业美光已量产无需EUV光刻机的1β(1-beta)制造工艺，主要是因为ASML的EUV光刻机实在太昂贵了，它希望绕开EUV光刻机来降低生产成本，这对ASML来说无疑是又一个重大打击。

业界都清楚光刻机非常昂贵，第一代EUV光刻机售价达到1.2亿美元，第二代EUV光刻机更将达到4亿美元，昂贵的EUV光刻机让芯片制造企业难以承受，但是为了推进先进工艺，它们还是无奈接受。
【光刻机|ASML再遭重击，美国芯片也舍弃EUV光刻机，中国芯片成救命稻草】不过在诸多芯片制造企业当中也有另类，日本的存储芯片企业铠侠就开辟了无需光刻机的芯片制造工艺NIL ，据悉铠侠早已将NIL工艺投入生产，大幅降低了成本，如今NIL工艺已达到10nm以下，预计可以应用于5nm工艺生产。
日本成功开发无需光刻机的NIL工艺给全球芯片行业带来启发，不过美光研发的1β(1-beta)制造工艺仍然需要ASML的DUV光刻机，只是绕开了价格昂贵的EUV光刻机，据悉美光的1β(1-beta)制造工艺可以提高能效15% ，存储密度则提升35%以上，达到世界领先水平。
随着美光研发出绕开EUV光刻机的芯片制造工艺，未来或许几家存储芯片企业三星、SK海力士等也会跟进，毕竟如今存储芯片价格大跌，降低成本成为存储芯片企业生存的关键，如果三星和SK海力士不跟进，那么它们将可能因为成本问题而落后于美光。

EUV光刻机是ASML赖以自豪的先进技术，全球仅有ASML能生产EUV光刻机，日本两家光刻机企业佳能、尼康只能生产DUV光刻机，然而ASML如今却已面临EUV光刻机难卖的局面。
台积电已关闭4台EUV光刻机，目前还面临着先进工艺产能过剩，为此以要求员工休无薪假期；Intel则已完成Intel 4工厂建设；三星的3nm工艺投产后面临无客户的问题，这三家购买EUV光刻机的大客户都不可能继续采购，如今美国芯片企业美光又宣布绕开EUV光刻机，那么ASML的EUV光刻机还能卖给谁？
ASML或许该考虑中国芯片客户了，由于众所周知的原因， ASML无法对中国出售EUV光刻机，然而如今环境下，中国大陆以外的芯片制造企业都已不可能采购EUV光刻机，而ASML本来还计划倍增EUV光刻机产能，那么它如果还不能对中国出售EUV光刻机，这些EUV光刻机就会成为库存。
全球芯片行业的衰退也给ASML带来压力，过去两年全球大举扩张芯片制造产能， ASML由此获得厚利，然而今年下半年以来全球芯片行业步入下行阶段，芯片制造企业不仅不会扩张产能，还在收缩产能，而中国大陆则为了推进芯片自给率继续推进产能扩张，可以说中国芯片已是ASML的救命稻草。

这个时候ASML就不得不考虑自己的生存问题了，如今的ASML确实处于辉煌顶峰，然而2005年之前它可是为生存而发愁，它也不想再回到那种吃了上顿没下顿的日子吧，面对中国芯片市场这个大蛋糕，它需要考虑下如何打破限制而对中国出售EUV光刻机的问题了。