光刻机|ASML为何不敢放肆？没有这家德国公司，它一台光刻机都造不出来( 二 ) 半导体

德国统一后，蔡司珍娜发现自己陷入困境，他们与西方的兄弟有大量的重叠，但由于失去了关键的苏联军事市场，在经济上处于不利地位。，这是一个经济动荡的时代，东德的工业产出比前一年下降了51%，300万东德人将失去他们的工作，西德的公司为东德的公司提供最好的零件，两者又进行多年的谈判，东德的部分传统蔡司公司的业务和名字，如显微镜，医疗仪器等将被西德部分收购，剩余的一个6800名雇员的公司，改名为遗传学，经营半导体、激光光学和自动化，起初它面临着破产的危险，但后来政府出面购买了80%的资产，成功挽救了该公司。

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1998年，该公司进行了4亿美元的首次公开募股，至今表现良好。，今天，卡尔-蔡司仍然是一个庞大的公司，他们有四个部分，包括工业质量和研究医疗技术，消费市场和半导体制造，这些不同的部门为不同的行业提供光学系统，如消费眼镜，汽车，医疗手术和测量机斜面显微镜，卡尔-蔡司在研发上花了很多钱，2020年达到8.12亿欧元，占他们整个收入的13%。
在本视频的其余部分，我们将重点介绍他们的半导体制造部门的产品，卡尔-蔡司smt，世界上很大一部分微芯片，都是用人工智能技术制造的，该公司是卡尔-蔡司A，G公司的合资企业，它拥有多数股份，ASML自己拥有24.9%的股份，根据他们的年报，该公司的核心产品，是ASML制造的光刻扫描仪和步进器的核心光学器件，深紫外光刻技术使用193纳米，或248纳米范围内的紫外光线，该公司已经建立了近百年的深紫外成像系统，早在1874年，卡尔阿巴本人曾提出过显微镜使用紫外光的可能性，直到1899年，该公司才得以开发出适合紫外线显微镜的石英透镜。

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在1960年代，该公司开始利用其显微镜技术，来制造用于微型光刻的镜头，这是第一次出现这样的镜头，微型光刻技术要求在一个相对较大的空间内，非常严格地控制光线的扭曲，一个透镜是不够的，所以把多个较小的透镜组合在一起，创造出一个巨大的光学器件，看上去很有趣的凸起结构减少了场曲率，这是一个常见的光学问题。只在画面中的某个区域内，不可能同时都是清晰的焦点。
这在平版印刷中意味着，如果你试图在太大的区域内投射设计，场的曲率会因为不够清晰，在帧的区域内造成不准确，在整个19世纪80年代和19世纪，Ice从他们的显微镜工作中借用和混合新的技巧，以适应行业的变化，并提高他们能够投影到晶圆上的分辨率，然后在2000年，新兴光刻技术的发现，使得分辨率的提高取得了新的突破，以前的摄影技术在晶圆和步进器之间，有一个空气间隙，浸入式光刻技术用水取代了这一点，所以现在你是通过水向硅射出紫外光。
台湾科学家柏林首次提出，并验证了用于半导体的方法，该技术允许边界蚀刻小至四十纳米的结构，极端紫外线光刻技术是半导体制造的下一步，它是一项颠覆性技术，用于今天的尖端工艺，事实上，它使用的是一种全新的波长，需要对光学系统进行很多彻底的改变，关键问题是，所有可用的材料都能吸收高能量的紫外光。

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包括空气本身，紫外线不可能通过镜片，蔡司不得不制作一个，完全由多层镜面组成的光学系统，蔡氏在1995年启动了一个微型曝光工具，首次开始研究其紫外线光学系统，你可以把它看成是最终工具的缩小版，与加利福尼亚州的劳伦斯利弗莫尔国家实验室，和伯克利实验室合作，他们在2003年交付了第一个原型。