高通骁龙|ASML没有时间去犹豫了！芯片|it芯片

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ASML没有时间去犹豫了！
虽然老美在半导体领域的劣势明显，但恰巧一些核心的技术，正是台积电、ASML等等厂商所需要的，即便拥有着垄断全球市场的技术，但还是逐步沦为了“棋子” ，无法摆脱含美技术只能任人摆布。
在ASML无法自由出货后，也让其逐步陷入了危机当中，目前各个国家的技术相继迎来突破，也证实了EUV光刻机并非不可取代，限制反而不断加速了技术自主化进程。
【高通骁龙|ASML没有时间去犹豫了！】
就连“一脉相承”的台积电，都失去了优先供应权，最先进的光刻机将会优先供应给被扶持的英特尔，台积电也不打算过度依赖ASML了，已经启动了先进封装技术的研发， ASML是否能够挺过这一关呢？
ASML自身的危机作为唯一能够制造EUV光刻机的厂商，也成功垄断了全球中高端市场，但似乎ASML并没有得到该有的尊重，首选与其嚣张的态度有很大联系，风生水起时曾扬言：“就算把图纸摆在面前，我们也制造不出来！”
也正是因为这样的态度，才彻底激发了国内的企业，在中科院的带领下，核心的技术基本上都实现了突破，目前就差供应链的整合了，届时上海微电子就能够量产28nm的DUV光刻机了，这也是ASML宁愿反抗老美，也要加速布局中国市场的原因。

目前在EUV光刻机上， ASML的地位还是相对稳固的，各大圆晶厂挤破脑袋获取产能，但台积电、三星、英特尔有着优先供应权，截止到2024年的产能，基本上都已经被预定了。
而台积电能够成就全球第一代工厂的地位，主要原因就是得到了ASML先进光刻机的支持，三星之所以各方面落后台积电，也和光刻机的数量不足有很大的关系。

在相关限制启动之际， ASML的EUV光刻机和在美工厂生产的DUV光刻机，就不被允许进口中国市场，在规则再次升级之后，就连外企的中国分厂也不被允许引进，老美还想进一步升级限制，将限制的范畴延展到DUV范畴。
已经限制了EUV光刻机，一旦连DUV光刻机也被限制，这无疑是断了ASML的财路，其负责人态度越来越强硬了，直接告诫老美要注意中国厂商在芯片供应链中的重要性。

在当前的特殊形势之下，制造光刻机所要用到的原材料，已经出现了短缺的情况，光刻机订单也将被延期交付，面对市场不断被收缩、新技术的不断出现，已经没有多少时间可供ASML考虑了。
ASML的“危险”在靠近对于过去而言，要想制造芯片就必须要光刻机，这也才让ASML的地位脱颖而出，实际上这是老美打压的结果，限制了更多技术途径的衍生，在新技术诞生之后，光刻机已经被证实并非必要的了。
而两项技术都来自于日企，其一就是由佳能、铠侠联合研发的NIL工艺，被证实在不使用EUV光刻机的情况下，可以实现对于5nm以下芯片的制造，意味着能够节省大量的成本。

其二就是由东京理科大学所研发的纳米压印技术，目前已经升级了工艺，完成了对于10nm以下分辨率形貌的突破，不需要高温、高压的属性，也能够进一步缩减造芯的成本。