芯片|打破日企芯片耗材垄断，徐州小厂拿下80%专利，获华为三亿投资光刻胶|光刻机|徐州|it芯片|重

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从全世界范围来看，芯片的运用范围越来越广阔，而且各行各业对于高级芯片的需求也在不断地扩大。只不过芯片的供给往往与需求不平衡，尤其容易出现供不应求的情况，从而造成“芯片荒”的现象。
众所周知，芯片的生产都是需要一定的技术和设备作为支撑，其中光刻机是生产芯片最主要的一种设备。但除此之外，一种名叫光刻胶的物质是生产高端芯片的重要原料只不过长期以来，高端芯片所需要的高级光刻胶的生产都被日本的东京应化、JSR所垄断，国内的企业在光刻胶的生产方面几乎没有话语权。

值得一提的是，随着时间的发展，一些国内企业也对高端光刻胶的生产进行了技术的突破。而徐州博康这家企业在2021年的时候获得了华为3亿元的投资，并借此机会，打破了日资的垄断，使我国掌握了更加高端的光刻胶的生产技术，那么具体的情况到底是怎样呢？
不可否认的是，全世界范围内能够生产高端芯片的国家和企业屈指可数。虽然芯片的外表看起来其貌不扬，但芯片的生产过程却十分复杂，且需要强硬的技术作为支撑，尤其晶片制作的环节是生产芯片过程中难度最高的一个环节。

其中，在芯片图形的形成过程中，对于光刻机的精确度以及光刻胶的品质是十分具有考验性的。比如说目前能够制造出3纳米及以下的EUV光刻机，只有荷兰的ASML公司能够生产出来。对于我国来说，虽然光刻机的生产技术在不断的突破，但距离ASML的光刻机还具有很长的一段距离。而除此之外，我国的光刻胶在此之前也频频受制于人，从而进一步限制了我国芯片领域的发展。
不同精度的光刻机对于光刻胶的特性要求是不一样的，并且每一种光刻机都有对应的光刻胶使用要求。比如说现在的光刻机分为三种， UV光刻机， DUV光刻机以及EUV光刻机，其中，目前全球最先进的光刻机就是EUV光刻机，其生产出来的芯片也是精度最高的。不过仅有光刻机还不行， EUV光刻机还需要对应EUV光刻胶进行使用。

一般来说，光刻胶由三种主要成分构成，分别是感光树脂，增感剂以及溶剂，而光刻胶的主要应用场所是将它涂在晶圆表面，当光刻机的紫外光照射在晶圆之上，正性的光刻胶会被留下来，而负性的光刻胶就会被溶解。之所以光刻胶对芯片具有关键作用，其主要表现在光刻胶的性能决定了所制造芯片的分辨率是怎样的。而越高端的光刻胶所具有的分辨率就会越高，并且相对应的光刻胶所需要的生产技术也会越严格。

面对日资对于高端光刻胶的垄断生产，国产的光刻胶也在不断地突破。 2021年的时候，徐州博康公司在资金的支持上成功突破了对高端光刻胶的生产技术，将光刻胶的金属含量从100ppb下降至10ppb ，并且还面向手机芯片市场，电脑芯片市场打造出了更多的光刻胶产品，从而积累了全球80%的光刻胶技术，并借此机会打破了日资对高端光刻胶市场的垄断，成功抢得5%的市场份额。那么我国为什么要如此专注突破光刻胶及芯片的生产制造技术呢？

一方面，与欧美等国家相比，我国的芯片制造领域是相对落后的，而且国内市场中所使用的手机，电脑的高端芯片几乎来自世界上其他国家的科技巨头，这样一来，当发生特殊情况的时候，所存在的信息泄露风险是比较大的。