光刻机|ASML、台积电传来消息，事关EUV光刻机、5nm、2nm芯片，行情变了芯片|极紫外光刻|台积电|it芯片

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芯片生产制造需要光刻机，尤其是先进制程的芯片，像7nm及以下制程的芯片，更是离不开先进的EUV光刻机。
据悉，台积电最先量产7nm芯片，但采用的是DUV光刻机， EUV光刻机上市后，台积电就推出了7nm EUV工艺，全面采用EUV光刻机生产制造7nm芯片。
这是因为用DUV光刻机生产制造7nm芯片成本高、工艺复杂，而使用EUV光刻机就简单很多，所以EUV光刻机上市后，各大芯片企业都争相购买。

但从2019年开始， EUV光刻机就不能自由出货，国内厂商全额订购的EUV光刻机，目前仍没有实现交付。
2021年年底， ASML还明确表示DUV光刻机可以自由出货，但EUV光刻机暂时还无法实现。
ASML、台积电传来消息，事关EUV光刻机、5nm、2nm芯片！行情变了
但没有想到的是， ASML就EUV光刻机出货表态一段时间后， EUV光刻机就传来了消息。
据悉， ASML方面给出了预期，预计到2025年，全球在用光刻机设备中， EUV光刻机的占比将会高达60% 。

就这意味着EUV光刻机将会在未来3年内大量出货、安装，甚至是实现自由出货，否则可能就无法实现60%的占比。
在ASML传来的EUV光刻机的消息后，台积电也传来5nm、2nm芯片的消息。
根据台积电发布的消息可知，使用DUV光刻机也是可以量产5nm制程的芯片，只不过成本较高、工艺更为复杂一些，需要更多层的曝光。
台积电利用DUV光刻机量产7nm芯片，因为成本等问题，其放弃用DUV光刻机量产5nm芯片，而是直接选择了EUV光刻机。

其实，在台积电透露这个消息之前，铠侠、佳能等厂商就联合推出NIL工艺，在不使用EUV光刻机的情况下，也能够生产5nm芯片，预计在2025年实现。
也就是说，在没有EUV光刻机的情况下，量产5nm芯片并不是不可能。
另外，台积电还正式对外表示， 3nm芯片将如期量产，而2nm芯片进展顺利，同时，投资2300亿元在台湾省中科园区内建设2nm芯片工厂。
可以说， ASML、台积电传来的这些消息，则意味行情变了。
【光刻机|ASML、台积电传来消息，事关EUV光刻机、5nm、2nm芯片，行情变了】
首先， EUV光刻机将会在未来3年内基本实现普及，这意味着EUV光刻机也不再是最先进的设备，会有更先进的光刻机出现，而现有的EUV光刻机很快就会自由出货。
其次， EUV光刻机原本是生产制造5nm芯片的必要设备，没有EUV光刻机，就无法生产制造5nm芯片。
如今，在没有EUV光刻机的情况下，也是能够量产5nm芯片，因为厂商可以采用NIL工艺，关键是其成本还低，能够节约大量用电能耗和40%的设备投资成本。

另外，在DUV光刻机下，只需要采用多重曝光技术，并花费更多时间和成本，也是能够量产5nm芯片，还能够将良品率控制在一个较好的范围内。
最后，芯片开始进入全新的制程节点。