wi-fi|国产光刻机攻破关键技术，完成最后一块拼图，北大再次立功三星

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我国拥有华为海思、紫光展锐这样掌握着先进芯片设计技术的企业，中芯国际也完成了5nm芯片制程工艺技术的研发，为何无法独自制造出高端芯片？任正非曾在接受央视专访中表示，制造芯片的关键设计光刻机被卡了脖子。

芯片虽小，但却是绝大多数电子产品的核心组成部分，被誉为“现代工业粮食” ，是一家实体科技企业发展的基础，更是衡量一个国家综合实力的一个标准，因此，实现芯片国产化是大势所趋。

若想实现芯片的国产化，尤其是7nm及以下制程的高端芯片，我们就必须研制出EUV光刻机，然而，对于我国研发EUV光刻机，西方科技界一致不看好， ASML公司CEO更是说出了非常具有嘲讽意味的话：中国人即便是得到了EUV光刻机图纸，也造不出来。
除此之外，中国院士吴汉明也曾在去年的科技大会上表示， EUV光刻机是全人类智慧的结晶，仅凭一个国家的力量，很难制造出EUV光刻机。

【wi-fi|国产光刻机攻破关键技术，完成最后一块拼图，北大再次立功】光刻机作为世界上科技含量最高的尖端设备之一，制造难度有多大，中国人真的无法成功研制吗？以ASML公司制造的EUV光刻机为例，其所需的10万多个元器件来自世界上35个国家的5000多家企业，且大95％以上的核心技术、元器件都掌握着签订《瓦圣纳协定》国家的手里。
EUV光刻机再尖端，也不是神造的，而是人造的，只要我们解决了物镜、光源、双件工作台这三大光刻机的核心组件，我们就能研制出EUV光刻机，打破西方的芯片封锁。

在过去的几十年里，我国科研机构、半导体企业不断加大在光刻机领域的研发投入，终于取得了重大技术突破，陆续掌握了双工件台和EUV光源系统等关键技术，且我国科学家正在趁热打铁，将科研成果商业化。

相比于双工件台和EUV光源系统， EUV光学镜头的技术壁垒更高，突破难度更大，因为镜头的镜面光洁度不得超过50皮米，且从事该领域的科研人员也非常稀少，这也是德国蔡司是唯一一家掌握EUV光镜技术的厂家。
还是那句话，只要不是神造的，中国科学家就能攻克！

近日，据《半导体学报》发布了2021年度中国半导体十大研究进展报告显示，北京大学电子显微镜实验室高鹏研究员研究组成功掌握了扫描透射电子显微镜技术。

据悉，北大所掌握的扫描透射电子显微镜技术是基于扫描电子显微镜发展的四维电子能量损失谱技术，与传统的谱学手段相比，更具准确性、灵活性，未来的发展空间更大。
值得一提的是，扫描透射电子显微镜技术突破了传统谱学在纳米尺度表征晶格动力学的局限，实现了半导体异质结晶面处局域声子模式的测量。

简单点说，我国掌握了更为先进的EUV光镜制程技术，精度更高！
北大掌握更先进的EUV物镜制程技术，完成了国产光刻机的最后一块拼图，极大的缩短了国产EUV光刻机的研制时间，对我国半导体行业的发展有着积极地促进作用。
国产光刻机完成最后一块拼图，再一次说明了人才的重要性，只要我们让自己培养的人才在自己的实验室里工作，我们就能打破任何技术壁垒，引领世界科技发展的潮流。