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ASML由于是EUV光刻机的独家供应商 , 所以很快在光刻机市场脱颖而出 , 成为全球的光刻机霸主 , 像台积电、三星等 , 都要依赖ASML的供货 , 才能生产先进工艺的芯片 。
但ASML其实还有另外一项重要业务 , 也是相关的用于芯片生产的设备 , 就是计量与检测系统 。 这包括光学计量和电子束计量与检测 。
区别在于 , 在用于5纳米等先进工艺上 , 需要用到电子束技术 , 光学技术就失效了 。
这些设备并非是用于制造芯片 , 而是用于提升芯片制造的良品率 。
曾经台积电就因为在良率控制上失误 , 造成损失了5.5亿美元 , 而现在由于制造成本成倍提高 , 所以良率控制就更加重要 , 否则损失难以估量 。
因此ASML其实在该领域也一直占据着不小的市场份额 , 不过有ASML方面的声音表示 , 中企已经开始陆续说再见了 。
首先在2021年 , 东方晶源就填补了国内的空白 , 成功量产了其首台12英寸CD-SEM , 也就是电子束量测设备 。
很快 , 中芯国际就立即下单 , 使得东方晶源12英寸CD-SEM量产即交付 , 不仅如此 , 在今年的4月份 , 东方晶源首台8英寸CD-SEM设备也量产即交付 , 成功出货燕东微电子 。
此外 , 像ASML一样 , 东方晶源也拥有计算光刻产品 , 同时还拥有电子束缺陷检测设备 , 这两项技术在CD-SEM之前就已经实现客户交付 。
因此我们看到 , 在该领域上 , 东方晶源实际上已经实现了对ASML的国产化替代 , 这也就从一个方面解释了 , 为何会说中企已经开始对ASML说再见了 。
更为关键的是 , 我们看到国内厂商对国产化设备采购非常积极 。
上文中我们介绍了对国产良率提升设备 , 国内芯片厂商积极采购 , 在其他设备上也是如此 。
例如薄膜沉积设备国产供应商拓荆科技 , 其客户除了中芯国际 , 还包括长江存储、华虹集团等 。
在刻蚀机上 , 我国中微半导体的设备 , 陆续进驻中芯国际、华虹半导体等国产芯片制造大厂 。
还有盛美的清洗设备、上海微电子的封装光刻机、北方华创的气相沉积设备、芯源微电子的涂胶显影机、稷以科技的等离子去胶机等等 。
例如近日上海积塔半导体在采购的33台设备上 , 我们发现七家中标企业中 , 六家都是国内企业 。
这再次让我们看到 , 只要我们国产供应链有相关的设备 , 那么国内厂商就会积极采购 , 这也是为何中企开始对ASML说再见的关键所在 。
上文中 , 我们国产计算光刻产品和电子束量测产品 , 已经让我们看到 , 实现量产就会被采购 , 实现国产替代 。
而在光刻机上 , 未来也将会如此 , 根据之前的消息 , 国望光学将会在2023年交付28纳米光学曝光系统 , 所以在明年 , 或者后年 , 我们国产光刻机 , 有望量产28纳米产品 。
那么届时 , 国产光刻机将会替代大部分的ASML光刻机 , 如果ASML还不开放EUV光刻机的销售 , 那么其在中企中的订单将会越来越少 , 也就真的要说再见了 。
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