可能有人觉得不就是28纳米而已 , 有一些不以为然 , 但需要知道的是 , 28纳米算是一个关键的技术节点 , 只要突破了28纳米 , 很快就会来到20纳米甚至是14纳米 。 并且由于在关键技术上 , 比如曝光系统、光源有了很好的突破 , 在未来即便是达到7纳米技术来说 , 至少在光刻机上 , 区别还是并不太大的 。
在2022年的4月份中 , 清华大学的朱煜教授做带头的团队 , 发布公开消息 , 表示在团队和华卓精科公司的共同突破下 , 自研光刻机双工作台研发成功 , 后者则是中国光刻机核心零部件的顶尖供应商 , 也算是打破了ASML在光刻机双工作台领域的垄断 , 成为全球第二家拥有此项技术的公司以及团队 。
【苹果|反对也没用!光刻机新规定来了,ASML将彻底无缘中国市场?】如果我们放到ASML的老路来看 , ASML从28纳米的光刻机到7纳米的光刻机 , 用了5年左右的时间 , 不出意外的话 , 我们也需要五到六年时间 , 才可以有机会突破到7纳米的技术上来 。 尽管我们的光刻机水平和国外先进技术依然有不少的差距 , 但进步非常明显 , 总有一天我们也一定可以追上国际先进光刻机技术的步伐 。
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