而现在上海新阳已有ArF光刻胶产品 ， 意味着对国产芯片制造产业将起到加速自主化的作用 。
而且上海新阳的这项ArF光刻胶产品事关国产7nm芯片 ， 前面提到ArF光刻胶可用于7nm工艺节点 ， 我国在7nm芯片制造产业链中并非没有布局 ， 甚至还下探到了更先进的5nm 。
比如中微半导体的刻蚀机就可成功刻蚀5nm芯片 ， 在芯片设计层面也有一些国产5nm订单作为需求支撑 。

所以上海新阳将来如果能彻底攻克7nm制程节点的ArF光刻胶 ， 必然有利于国产7nm芯片的发展 。 解决了一个问题 ， 再去解决第二个 ， 第三个 ， 按这种趋势发展下去 ， 迈入最终一步也并非不可能 。
国产光刻胶的发展状况虽然上海新阳并没有透露已有的ArF光刻胶是处在多少纳米水准 ， 也许是55nm ， 也许是28nm ， 甚至是14nm都有可能 。 如果情况再好一些 ， 上海新阳又取得了重大科研进展 ， 触碰到7nm ArF光刻胶也未必没有可能 。

除去上海新阳这次传来的好消息 ， 让大家知道了这家公司有怎样的业务情况 ， 那么国产光刻胶又处于怎样的发展状况呢？总的来看 ， 可能暂时达不到日本光刻胶垄断产业的水准 ， 但已经有很多国产光刻胶厂商不断取得进步 。
比如南大光电在ArF多个技术节点实现认证 ， 重要项目通过国家级专家组验收 。 还有晶瑞电材的193nm ArF光刻胶研发工作已经展开 。 彤程新材的KrF光刻胶已实现批量供货 。 其余的广信材料 ， 飞凯材料等等国产光刻胶厂商均有各自的进展 。

这些国产企业相对集中在中低端光刻胶市场 ， 而在中端已经有南大光电 ， 上海新阳成为主力 。 至于高端的EUV光刻胶 ， 目前仍处在进口阶段 。
写在最后国产光刻胶和诸多核心半导体技术一样 ， 都是需要长期耕耘和努力付出的 。 日本能在光刻胶领域取得这般地位 ， 同样是靠几十年的积累 。 所以不需要气馁 ， 相信只要不断取得进步 ， 一定能实现厚积薄发 。
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