联想|国产光刻机精度虽然低,把CPU尺寸做大些获得同样性能可行吗?

联想|国产光刻机精度虽然低,把CPU尺寸做大些获得同样性能可行吗?

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联想|国产光刻机精度虽然低,把CPU尺寸做大些获得同样性能可行吗?

国产古光刻机精度虽然低 , 把CPU尺寸做大些获得同样的性能可行吗?答案是不可行 , 要说起来国产自研发处理器的厂商确实不多 , 目前我们可能知道最多的就是华为和龙芯 , 确实我们在军用方面现在很多用的是65nm公司的技术 , 这也是目前国内光刻机上海微电子目前最成熟的工艺 , 不过军用方面确实没有问题 , 在国外也会发现军用方面CPU工艺制程也不高 , 原因就在于说本身军用处理器对于性能的要求不高 , 所以不需要说像现在商用的CPU一样需要考虑到晶体管的数量 , 再者就是要求稳定 , 工艺虽然看着很差 , 但是经过测试发现工艺越高 , 抗干扰的能力就越低 , 所以现在军用的确实工艺都不高 ,



但是我们还要考虑到一个问题 , 那就是商用和军用的不同 , 比如就拿华为来说 , 如果把尺寸做大 , 也就意味着手机尺寸要增加 , 而且你要考虑到功耗和发热 , 电脑确实现在比如intel大多数还是集中在14nm , 这是因为电脑主机尺寸大 , 所以散热做的更好 , 但是手机确实不可以 , 而且现在你看看大多数都是集中在7nm手机现在的处理器 , 功耗和发热一样会很大 , 你如果采用之前的工艺那功耗和发热会怎样 , 确实不敢想象 。



实际不管是电脑还是手机处理器这种方式都不可行 , 工艺越高晶体管数量越多 , 实际就是为了保证性能和功耗的均衡 , 但是你只顾增加尺寸 , 对于工艺不做要求 , 那么散热就要做的很好 , 但是我们看到的情况 , 现在intel的14nm处理器 , 我们发现即便是有散热的情况下 , 电脑还是会发热 , 这么大的主机体积和散热都压制不住 , 手机怎么压制 。 而且现在光刻机国内完全自主研发的就是上海微电子 , 现在还是保持在65nm , 至于说的28nm目前听说是将要在年底才会上线 , 所以还是不确定的状态 。


【联想|国产光刻机精度虽然低,把CPU尺寸做大些获得同样性能可行吗?】
现在军用CPU就是如此 , 因为散热做的更好再加上要求不高 , 但是商用的电脑处理器手机处理器这种方式是不可行的 , 工艺差 , 你通过提升面积来增加性能 , 功耗和发热需要考虑到 , 而且国内最高65nm , 这个发热量确实有点大了 。