芯片|实现4nm芯片三维封装让台积电眼红?芯片产业未来走向是立体封装( 二 )



有的朋友可能会问了 , 台积电那么厉害 , 为啥不直接把这些芯片整合生产出来 , 非要切成一片一片再封装呢?首先 , 芯片越复杂 , 生产流程越复杂 , 生产成本越高 。 同样的芯片放到一个晶圆上生产 , 不同的核心放到不同的批次上生产 , 效率更高 , 成本更低 。 其次 , 芯片生产特别强调良率 , 也就是合格率 。 所有的芯片代工厂都无法做到良率百分百 , 而且芯片越大越复杂 , 良率越低 。 显然把多核芯片拆开来生产 , 要比整合到一起生产更划算 。 既然拆开来生产 , 就必须要再整合在一起 , 封装的重要性就体现出来了 。
多说一句 , 有些功率芯片 , 使用三代半导体技术 , 用砷化镓、氮化镓或碳化硅来生产 , 并不能跟硅基芯片一起生产 , 就算是整合的时候 , 也不是简单摞起来就行了 , 必须要考虑材料的兼容性 , 还要综合考虑导热散热问题和线路连接问题 , 这对封装技术提出了比较高的要求 。

讲了这么多 , 大家也应该明白了 , 所谓的多维异构封装 , 并不是中国公司独创的 , 而是业内的通用做法 。 大家千万不要以为台积电不会封装 , 台积电能提供从芯片设计到芯片封装测试的全部服务 , 只不过最拿手的还是芯片生产环节 , 因为那是目前为止最不可替代的环节 。 台湾的芯片产业 , 就是从封装开始的 , 后来才逐渐涉足芯片制造 。 台湾省在芯片封装行业基础雄厚 , 技术领先 , 并非大陆公司可以轻易超越的 。
至于说 , 多维异构封装技术能替代芯片工艺的不断提升 , 成为芯片生产行业下一步的发展方向 , 这一点是有一定道理的 。 随着芯片制程工艺的不断提高 , 芯片中的晶体管越做越小 , 生产难度越来越大 , 量子隧穿效应带来的功耗增加越来越明显 , 提高工艺制程带来的收益 , 将会小于改进封装工艺带来的收益 。 所以 , 近几年芯片封装领域的产值增加速度非常快 , 平均超过了10% 。
虽然封装工艺的前景无限 , 但是仅靠封装工艺是摆脱不了卡脖子限制的 。 简单点说就是 , 只会包装 , 不会生产 , 包装得再好 , 买不到合适的芯片来包装也是英雄无用武之地的 。 中国企业实现4nm芯片封装工艺 , 被某些人报道得好像突破了4nm芯片生产工艺一样 , 又好像这个企业封装的芯片不是台积电或三星生产的一样 。 大家看到 , 笑笑也就好了 。

三、先进封装工艺可以摆脱对先进光刻机的需求吗?
很多人可能认为最先进的极紫外光刻机只适用于7nm以下制程工艺 , 14nm、28nm完全是深紫外光刻机的天下 , 用不到那么先进的光刻机 。 这个理解是错误的 。 深紫外光刻机生产14nm、28nm是没有问题 , 但是随着极紫外光刻机的普及 , 深紫外光刻机就算是在28nm成熟工艺上的优势也将越来越少 。 长波长的深紫外光刻机能应用于28nm及以下制程的关键 , 就是通过多次曝光的方式 。 打个比方 , 极紫外光刻机一次曝光就能画出来的图形 , 深紫外光刻机可能需要三次曝光甚至更多次 , 才能画出来 。
而且 , 就算画出来 , 也比极紫外光刻机画出来的图形粗糙多了 , 相应地 , 产品的良率远远低于极紫外光刻机生产出来的产品 。 当台积电、三星不断添置新的更先进的极紫外光刻机 , 把相对较老的极紫外光刻机应用到成熟制程上时 , 对于只能应用深紫外光刻机的芯片代工厂来说 , 简直就是降维打击了 。
【芯片|实现4nm芯片三维封装让台积电眼红?芯片产业未来走向是立体封装】
凭借深紫外光刻机生产14nm芯片 , 加上立体封装就能让台积电哭晕的想法 , 太一厢情愿了 。 不是无知 , 就是故意忽悠普通老百姓 , 赚取流量 。 更值得强调的是 , 就算是深紫外光刻机 , 也是依赖进口的 , 想实现国产化替代 , 短时间内是不可能的 。 而且深紫外光刻机也有被禁售的可能性 。 与其靠嘴自嗨 , 还不如塌下心来支持相关研究 , 尽快帮助国家实现技术上的突破来得更可靠 。