中芯国际|增援中芯国际、华虹，打破外部垄断，14或7nm国产设备也将交付！半导体|芯片|台积电|it芯片

文章图片

文章图片

文章图片

国产半导体设备，来了！此前中芯拿到“成熟工艺”许可，但后来也被爆出想要进口一些设备还是难度很大。有分析指出，中芯的一条生产线，多半以上的设备都是靠进口，这不是我们的设备不行，而是在前期追求先进工艺的时候，当自己的设备跟不上，那只能选择进口了，而现在再想着替换，难度确实很大，毕竟大家都知道， “一代技术一代设备” ，所以想要实现替换，这背后可是牵动了一个庞大的生态链！

别人问尹志尧的时候，其表示国内的设备与先进工艺还差两三代，而这两三代又该用多久去追赶呢？你在追赶的时候，别人也有进步。而就在近日，国内半导体设备频频传来好消息，甚至还打入台积电的生产线中！

抛光设备、离子注入机迎来大突破！上周四中电科对外展示了自己的成果，其中8英寸抛光设备最为亮眼，在芯片生产过程中需要用该设备去除漆面污染、金属氧化物等等，对硅晶圆表面进行机械式研磨、抛光，以此来实现行业所需的标准，所以该设备的重要性是不言而喻的。
如今中电科的8英寸抛光设备不仅供货于中芯国际、华虹等企业，也打入到台积电的供应链中，从这里也可以看出中电科该产品的实力是不容小看的。
当然，除了抛光设备之外，研发难度仅次于光刻机的离子注入机也被其攻克，甚至可以实现全系国产化。

然而，除了这些半导体设备之外，至纯科技也传来好消息，那就是打破了此前美日韩所垄断的湿法设备领域，并且28nm已经投入到中芯、华虹的生产中，而更为值得期待的是14nm和7nm的湿法设备，预计到明年就可以交付。

可能很多人对前面提到的几种设备比较熟悉，但是对湿法设备就比较陌生。首先来说它的应用不是那么的靠前，其次之前这个领域多数是被外部所垄断，国产占比不到1% ，但是在芯片制造过程中所涉及到的曝光、刻蚀、清洗等流程的清洗，就需要使用到它。从字面上理解就是它的作用，清洗牺牲层、氧化物、小颗粒等等，没有这一步，晶圆想要“成色”好，难上加难！

国内半导体的“大爆发”！可能有些网友已经感觉到，近来国内不少半导体设备层出不穷，甚至一度觉得我们就差光刻机了，其实并不是，一颗芯片的诞生所涉及到的设备，远远不止这些，而更为重要的是，即便是设备都到位，但制程不一样，想要建起一条产线也是很有难度。
不少人应该还记得中芯国际近来大力投资28nm领域，甚至台积电都开始全球性质的扩产28nm ，这背后的原因是市场需求，于我们而言，这更像是一个分界线。
28nm对于国内不少企业来说难度不是很大，但如果能够建起一个100%国产化的产线，那就需要更多的努力，尤其是在设备上。前面也说过， “一代技术一代设备” ，我们替换的何止是芯片，更多的是生态，是产业，而当自研的设备到位，那产业也就带动起来了！

【中芯国际|增援中芯国际、华虹，打破外部垄断，14或7nm国产设备也将交付！】期待吧，国内半导体的道路还很长，这才刚刚开始！目前，全球正处在缺芯潮中，这是我们难得一遇的机会！