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关于国产EUV光刻机 , ASML工程师给出答案 , 三星将成主要受益者!
ASML虽然垄断了全球中高端光刻机市场 , 但其市场地位并没有那么美好 , 在老美的强行干预之下 , 很多芯片厂商都对其产生了“抵触”心理 , 很多国家都开启了摆脱光刻机依赖的计划 。
在看清了形势之后 , ASML也低下了高傲的头 , 首先妥协的就是中国市场 , 在EUV光刻机被限制出口之后 , 就不断的讨好国内企业 , 希望能够扩大DUV光刻机的出售范围 。
在芯片法案落地之后 , 老美明显是有针对性的 , 试图将出口中国市场的设备范围调整为DUV , 自然ASML不可能答应 , 在态度上也迎来大反转 , 三星可能成为最大受益者 , 这将对整个半导体市场带来什么改变呢?
ASML的态度变了未能获取到先进光刻机 , 这也导致国内的整体制造工艺卡在了14nm上 , 中芯的梁孟松此前明确表态 , 只要获取到EUV光刻机 , 就能立马展开7nm的量产计划 , 并且关于5nm工艺的八项工作也已经展开 。
在芯片规则的不断调整下 , 就连外企的中国分厂都不被允许带入 , 自然受到影响最大的就是韩企了 , 国内市场消耗了韩半导体60%的市场份额 , 三星、SK海力士等等大部分工厂都在国内 , 自然不会那么轻易去妥协 。
而这一系列的变化 , 都在潜移默化的影响着ASML的销量 , 在面临严峻的考验之下 , ASML的态度再度迎来了反转 , 原本的“脾气”早就已经磨没了 , 目前已经传出了新的消息 。
对于国内启动的光刻机制造计划 , ASML的负责人此前直接嘲讽:“就算把图纸摆在面前 , 我们也制造不出来!”但如今它们已经承认了 , 这样的说法并非出自本意 , 这是西方为了误导研发方向的说辞 。
特别是在老美咄咄相逼的三年时间里 , 国内厂商下定决心去研发核心技术 , 目前已经接连突破了三大核心技术 , 不仅是DUV光刻机 , 后续连EUV光刻机也有望迎来国产化 。
这也让ASML开始着急了 , 只要是能够讨好中国市场 , 它们都尽全力去做 , 而对于中国能不能实现EUV光刻机自研自产 , ASML的工程师也给出了明确的答案 。
其表态:“EUV光刻机就算再复杂 , 那也是人研发出来的设备 , 关键是物理定律是不变的 , 荷兰工程师能够研发出来 , 中国工程师也一定是可以的!”
三星将成为大赢家在被告知无法将EUV光刻机带入中国分厂之后 , 韩企一直都在争取更大的可能性 , 毕竟三星的发部分存储芯片工厂都在国内 , 超过50%的产能在中国制造 , 并且还不断在扩充产能 。
【Python|关于国产EUV光刻机,ASML工程师给出了答案,三星将成为大赢家!】为了形成更好的竞争实力 , 三星早就有意升级存储芯片的制程工艺 , 因此如果EUV光刻机不能带入中国工厂 , 那对其竞争力还是有很大影响的 , 毕竟还有SK海力士、铠侠、西数、美光等厂商虎视眈眈 。
为了让中国分厂得到EUV光刻机 , 三星对老美进行了妥协 , 并表态将会在美本土建设3nm产能 , 并且未来十年内还将有2000亿美元的投资计划 , 而这正是老美所想要的 。
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