资讯|三星首次公开3nm工艺GAA技术 或在今年进行量产
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台积电版的骁龙8+确实令三星陷入了个不小的窘境 , 不过 , 作为志在“2030年前 , 成为全球最先进的半导体制造公司之一”的三星 , 日前终于亮出首个3nm工艺制造的12英寸晶圆 , 并计划在今年Q2季度量产 。
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据三星透露 , 与7nm制造工艺相比 , 3nmGAA技术的逻辑面积效率提高了45%以上 , 功耗降低了50% , 性能提高了约35% , 纸面参数上来说却是要优于台积电3nmFinFET工艺 。
对三星来说 , 3nm节点是他们押注芯片工艺赶超台积电的关键 , 三星的3nm节点启用GAA技术 , 这是一种新型的环绕栅极晶体管 , 通过使用纳米片设备制造出了MBCFET(Multi-Bridge-ChannelFET , 多桥-通道场效应管) , 该技术可以显著增强晶体管性能 , 主要取代FinFET晶体管技术 。
【资讯|三星首次公开3nm工艺GAA技术 或在今年进行量产】另一方面 , 据此前业界曝光的信息:台积电将于今年下半年小规模试产 , 明年才会进行大规模量产3nm工艺 。 所以 , 凭借绝对的时间进度 , 虽然厂商们或许会顾虑三星良品率不行等负面传闻 , 但3nm工艺GAA技术的绝对性能提升还是为三星带来了极大的优势 。
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