|继造EUV光刻机后,俄又传出新动作,国内院士的呼吁该重视了
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【|继造EUV光刻机后,俄又传出新动作,国内院士的呼吁该重视了】
中芯国际做对了?
台积电已经是量产5nm , 且3nm和2nm工艺也将开始新的工作 , 现在手机上如果不是5nm工艺的芯片 , 厂商都不好意思开个发布会 , 所以很多情况下都以为 , 现在芯片应该出手就是5nm , 而那些28nm甚至90nm的工艺就是“笨重”、“落后”的代名词 , 所以这里也就能够理解 , 当初龙芯总设计师胡伟武表示没必要追5nm、干好当下工艺被喷的原因了 , 毕竟现在似乎是人手5nm 。
随着美企不断的断供 , 俄也同样面临着这样的问题 , 于是俄就开始行动 , 一个就造EUV光刻机 , 另一个就是造自己的芯片 , 但是它的计划就是从90nm开始干起 , 短期目标是28nm , 要知道28nm工艺台积电在2011年的时候就已经开始做到了 , 而这是俄在2030年的目标 , 所以这一刻就更加懂中芯国际的做法了!而国内院士的呼吁 , 也早该重视!
28nm , 够用!如果说28nm的工艺芯片够用 , 那肯定会被喷说是不思进取 。
但是在去年 , 甚至是在前年 , 中芯国际多次布局、增产28nm领域 , 而台积电 , 更是欲将在南京扩大28nm的产能 , 甚至还将月产、扩产速度给提速很多 , 那个时候一时间多人对台积电的做法表示不满 , 甚至认为这是在抢中芯的订单 。
时间来到2022年4月左右 , 也就是近期美企不断地对俄采取措施之后 。
一些美企的断供咱这里就不多说了 , 主要就是想说一些半导体方面的事情 。
就从现在的情况来看 , 他们也是很难获得新的芯片“进账” , 那怎么办呢?还是得自己造 。
于是俄就传来了两个动作 , 一个是造芯 , 一个是造芯所需要的设备 , 造EUV光刻机 。
其实说实话 , 俄的目标还是挺厉害的 , 一个目标就对准了EUV光刻机 , 这台设备其技术难度不用分说 , 但是据说俄将会采用新的光源来解决这个问题 , 而就在前不久日企也公布了在3D光刻机方面的成绩 , 所以这样来看 , 造EUV光刻机也不是那么没谱的事情 。
紧接着就是近期俄宣布的另一个计划 , 那就是芯片方面的问题 。
其现在的工艺还不是很先进 , 所以就有消息称俄欲将计划在2022年底实现国产90nm芯片 , 到了2030年实现28nm芯片 , 其所涉及到的资金更是高达 52 亿美元 , 当然这里面包括的项目多了去 , 就不单独说明 。
然而这里需要提一下的就是 , 台积电早在2011年就量产了28nm , 且预计在2026年实现2nm , 所以这样对比 , 是不是就知道差别了呢?
但是我们的关注点不应该是在这个制程落差上有多大 , 而是在工艺上 , 在需求上 , 在自己的生产线上 。
前两年胡伟武就表示 , 我们应该稳住当下的产线 , 努力做好手里的事情 , 不要别人做5nm我们就跟着做 , 而事实上呢?就比如中芯 , 在这两年也是疯狂地扩建28nm的产能 , 因为在需求上 , 28nm能够解决很多问题 , 在工艺上 , 它不算先进 , 但也不算老 , 是一个很好的突破点 。
倪光南院士表示 , 28nm芯片能够量产 , 也是能够解决很多科技产品的“换芯” , 或许这也就能够更加明白成熟工艺更为重要的意义吧 。
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