光刻机|为了EUV光刻机，这一次，中科院拼了芯片|阿斯麦尔

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光刻机作为造芯片的重要工具，很多芯片制造商都会从ASML手中采购光刻机。从中低端的ArF ， DUV光刻机到高端的EUV光刻机，都能为芯片制造产业提供巨大的产能支持。

而ASML的供货情况大家都知道，最先进，最高端的EUV光刻机无法做到自由出货。因此关键时刻还得靠自己。
中科院说过要将光刻机作为科研目标，而这一次，中科院付出了切实努力。都有哪些科研情况呢？光刻机的研究有何深远影响？

关于光刻机研究，中科院说到做到市场对光刻机仍有很大的消费需求空间，但是能做到大量供货光刻机的厂商全球范围内就那么几个。最受瞩目的就是ASML ，这家公司一年可供货上百台光刻机，其中最顶级的EUV光刻机就能达到40余台。
而且随着ASML对产能的投入，未来还会取得更大的产能突破。包括日本佳能，也因为光刻机的盈利能力不断增强，因此佳能上调了净利润预测值。

这些迹象都足以说明，市场对光刻机的消费需求不断增长。我国集成电路产能也在明显提升，而且专门定下了相应地芯片自给率目标。要想完成这一目标，是需要靠本土化芯片产业链实现生产作业的。
生产芯片需要获得的设备就包括光刻机。在认清了ASML的出货状态之后，让人明白关键时刻得靠自己。
而关于光刻机的研究，中科院说到做到。中科院院长白春礼表示过，将部署光刻机等领域，将其当做科研任务。

专业的事还是交由专业的人，那么中科院在光刻机都有哪些科研情况呢？
根据传来消息显示，中科院上海光机所实现对光刻机诸多领域的技术突破，包括完成N41 钕玻璃用包边玻璃的研制，这是核心光学元器件的重要科研内容。除此之外，也完成米级光栅大口径离轴反射曝光技术，大尺寸 DKDP 长籽晶快速生长技术。
随着这些技术突破的消息传开，也验证了努力就会有回报这样的道理。中科院说到做到，切实展开了光刻机的研究。这些科研情况对国产光刻机而言，或将积累更多的实际经验。

为将来能够在EUV光刻机领域迈出稳重步伐，提供更夯实的基础。为了EUV光刻机，这一次，中科院拼了。未来往前的每一步都会变得有意义。
光刻机的研究有何深远影响？都知道光刻机是多么先进的设备，就算是ASML ，也需要从全球供应链获得关键的技术支持，才能完成EUV光刻机的生产制造。
仅凭ASML自己，是无法同时解决双工件台、光学系统、曝光系统、物镜等核心器件的。这些还只是光刻机的零部件之一，更多的电子特气、光刻胶材料等等都得跟得上生产节奏，技术必须保持一致协调性才行。更多的技术还需要从全球供应链获取。

可纵使面前的山峰再高，也无法动摇继续向前的决心。所以会看见国内很多顶级高校，科研机构都在坚持不懈向前迈进，一点一滴的技术积累，能为将来做好必要的准备。因此光刻机的研究是有深远影响的。