阿斯麦尔|中芯国际好消息，ASML不需要了？( 三 ) 光刻机|中芯国际|纳米

因此如果有国产产品，自然国产产品要更受青睐，尤其是在当下这样的大环境下，大家都担心供应链安全问题。

而且根据之前中科院方面的表示，要在十年内解决卡脖子的光刻机问题，而卡脖子的就是EUV光刻机。
所以按照这个时间点来计算，当我们的DUV光刻机发展到7纳米时，正好与中科院解决EUV光刻机的时间点相贴合。
实际上，在DUV光刻机上，其中关键的曝光系统，其主要技术支撑团队也是中科院，包括中科院长光所和上光所。

因此我们国产光刻机进入28纳米是一个关键节点，这就意味着对ASML将不是刚性依赖，因为国产产品已经可以满足量产的生产需求。
而后续的发展，将会与芯片代工厂的发展同步，那么对ASML的需求就更小了。
这里可能会有朋友提出反驳，但是我们不妨换个角度来看，就拿中芯国际来说，其7纳米技术已经开发完成，但为什么我们迟迟看不到中芯国际生产的7纳米芯片呢？

而且其N+1工艺的芯片在市场上也很少。

要知道，中芯国际是可以采购ASML的DUV光刻机的，它可以用于生产N+1工艺和7纳米工艺。
这也就是为什么说，我们国产光刻机的后续研发，是可以匹配国产芯片工厂的量产进度的原因。

【阿斯麦尔|中芯国际好消息，ASML不需要了？】同时，也是在说明，我们后续对ASML的需求将极大减弱，因此， 28纳米光刻机，将会是一个历史转折的标志性事件，我们拭目以待。