超3万亿！EUV光刻机不再是唯一，老美封锁计划逐渐被突破( 二 ) 在今天这个互联网数字化时代

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可见光刻机背后的供应链是如此重要，而中国要以一己之力实现自主研发生产光刻机，这背后需要投入多少人力物力，难度是不言而喻的。
尽管ASML生产的光刻机已经占了了全球一大半的市场份额，但自从美国修改芯片规则后，也迎来前所未有的压力。

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ASML无法正常自由出货，而被封锁打压的国家也加速走上研发，甚至所有国家和厂商都开始明白，掌握核心技术才是硬道理，不能一直活在美国笼罩之下的“造不如买”大环境。
自从华为之后，越来越多的厂商开始绕开“美国技术”进行研发，越来越多的国家也是如此。

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进入4月份之后，众多美国企业对俄罗斯进行“封锁打压” ，苹果、高通、英特尔等厂商都先后撤离。
这就让俄罗斯也开始尝到了当初与华为相似的“苦果” ，而俄罗斯本来就是依赖进口去实现高科技发展。

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如今老美修改规则后，俄罗斯也被迫走上研发之路，俄罗斯本土的芯片厂商Mikron拟定计划投资超过1亿美元用于芯片研发与扩大产能。
尽管ASML无法正常给俄罗斯销售光刻机，但Mikron可以通过购买“二手货”去解决需求，不管是二手光刻机，还是二手蚀刻机都能够在市场上解决。

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正所谓重赏之下必有勇夫，如今不仅有部分厂商原因“割爱” ， Mikron也明确表示在年底将可以实现90nm工艺制程的芯片量产。

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除此之外，俄罗斯还计划投资超过30000亿卢布大力发展芯片供应链，为了突破美国技术封锁，俄罗斯还开始绕开ASML的EUV光刻机和“摩尔定律”硅芯片，在X射线光刻机中入手，研发更为先进制程的芯片。

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俄罗斯这30000亿卢布就是为了能够从芯片设计到芯片生产到封测都能够实现一体化，彻底走上IDM模式。

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【超3万亿！EUV光刻机不再是唯一，老美封锁计划逐渐被突破】自从华为被老美打压之后，在芯片半导体领域加上研发的远不止我国厂商和俄罗斯厂商。前段时间日本铠侠就推出了能够绕开EUV光刻机生产的NIL技术芯片。同时欧洲19国也联合起来研发2nm工艺制程，就是为了绕开美国核心技术的束缚，能够早日实现自由出货。

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也透露出美国的封锁计划，不仅打断了全球芯片半导体供应链，还激发了所有厂商的研发决心。
所以说，今天的全球芯片半导体领域已经迎来重新洗牌，这也是为何美国需要急忙启动“高端制造业回流”计划的原因，毕竟眼看中国芯片半导体迎来春天，高通被联发科拿走芯片出货量第一的位置，英特尔开始依赖台积电，甚至日本也开始研发绕开美国的新技术。

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也透露出， ASML的EUV光刻机并不是唯一，美国的封锁打压更不能阻挡任何一家又决心崛起的厂商。在今天这个全球化的大环境下，只有合作才能共赢。