联想|ASML总裁：我们严重低估了光纤

【联想|ASML总裁：我们严重低估了】

文章图片

文章图片

文章图片

文章图片

熟悉光刻机领域的朋友应该知道，在光刻机领域，从市场份额上来看，主要是被这三大公司所把持，分别是ASML、尼康和佳能。

其中ASML公司占据了较大的市场份额，从占比来看，大约在70%到80% ，也就是说，即便是在以DUV光刻机为代表的成熟制程领域， ASML的光刻机依然热销。
其实ASML的崛起，本来就是从DUV光刻机开始，具体来说，是在从193纳米到154纳米光源的转折中出现的。
ASML选择采用浸润式技术，这样193纳米波长的光，可以直接等效134纳米，比154纳米波长还要短，让ASML一举超过了尼康。

不过近日ASML总裁温宁克在财报电话会议上表示：我们严重低估了芯片需求的广度，我认为这种情况不会消失。
具体来说，目前芯片短缺问题依然很严重，温宁克认为这种芯片短缺的情况会依然持续很久。
上面我们提到， ASML占据了光刻机市场七八成的市场份额，因此对于市场芯片短缺的程度应该是最敏感的， ASML总裁温宁克的发言比任何媒体和研究机构都会更有可信度和说服力。

因此有外媒表示，这相当于中国光刻机”有戏“了。
这是因为，芯片的短缺并非只是先进工艺芯片的短缺，而是广泛的短缺，这就包括很多成熟工艺。
我们从二手光刻机市场就能看出很多端倪，例如根据之前媒体报道称，佳能一款支持350纳米工艺的光刻机，其售价竟然翻了17倍。

以中芯国际为例，其约65%的营收，都来自55/65纳米及以上工艺，其中150/180纳米营收占比最大，约占比29% 。
这都说明，并非只有EUV光刻机才是刚需，也并非只有EUV光刻机才有市场，事实上那些我们看似落后的成熟工艺的光刻机，市场需求量依然庞大和急切。
而这就为我们国产光刻机提供了机会，这也是为什么外媒会说中国光刻机有”有戏“了的原因所在。

以上海微电子为例，其600系列光刻机，可以支持280纳米、110纳米和90纳米分辨率，光源上分别采用i线、KRF准分子激光器和ARF准分子激光器。

其中SSA600/20步进扫描投影光刻机分辨率为90纳米，这里需要做一个特别说明，光刻机的分辨率，并不直接等于可以做到的芯片制造工艺。
我们就以ASML的EUV光刻机为例来说，其第一代采用0.33数值孔径的光刻机，最大分辨率为13纳米，第二代采用0.55数值孔径的光刻机，最大分辨率为8纳米。

也就是说，上海微电子的SSA600/20光刻机，并不是只能生产90纳米芯片，实际上，这款光刻机可以支持到65纳米生产工艺。
根据媒体报道称，一位芯片制造商的代表表示，相比较购买二手光刻机，我们更愿意购买新机器。
很显然，目前市场对光刻机的需求旺盛，而我们国产光刻机毫无疑问是迎来了一次机会，所以说中国光刻机”有戏“了。

这不仅仅只是出货量可以获得提升，因为芯片制造商要采购一个新厂家的光刻机，需要经过很长时间的测试环节，前提是芯片制造商有采购的意愿。