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麻雀虽小 , 五脏俱全 , 一枚小小的芯片 , 生产的难度 , 结构的复杂度 , 那也是难以想象的 , 所以 , 当年我国在半导体领域才有造不如买 , 买不如租的思潮 。 但是美国的一纸禁令 , 让全球明白 , 昏睡的生活 , 比死更可悲 , 愚昧的日子;愚昧的日子 , 比猪更肮脏 。
【阿斯麦尔|这一次,ASML捅了“马蜂窝”?】
为了实现苏醒 , 为了扫清愚昧 , 全球有不少的国家和企业都纷纷在半导体领域寻求突破 , 特别是在芯片生产设备上 , 更是不遗余力地摆脱阿斯麦尔的依赖 。 不得不说 , 阿斯麦尔近些年的举动 , 终究还是捅到了全球的马蜂窝 , 那么阿斯麦尔究竟是怎样一步步作到今天这个地步呢?
在全球摆脱阿斯麦尔EUV光刻机中 , 其中也不乏有我国、日本、俄罗斯这些科技实力不算弱的国家 。 而目前 , 中日俄也有在紧锣密鼓地行动 。 那么 , 随着中日俄的出手 , 是否会冲击到阿斯麦尔的市场地位呢?
就EUV光刻机 , 中日俄相继出手高端芯片的生产离不开EUV光刻机 , EUV光刻机的生产离不开阿斯麦尔 , 但是 , 阿斯麦尔能否成功出货 , 最终的决定权还是在美国手上 。 就美国一贯的特性来看 , EUV光刻机的供应变数还是不小的 。
为了尽可能避免这种变数的到来 , 为了减轻这种变数带来的影响 , 我国、日本和俄罗斯都在行动中 , 先来说说我国 , 3月28日 , 在华为2021年度报告发布会上 , 针对外界对于华为芯片业务的关心 , 华为前轮值董事长郭平公开表示 , 华为未来将着重投资三个重构 , 用面积换性能 , 用堆叠换性能 , 使不那么先进的制程也能让华为产品具有竞争力 。
华为的想法其实已经被苹果验证了 , 在3月9日的凌晨 , 苹果在自己举办的春季发布会上推出了一款全新的M1 UItra , 这枚芯片其实就是用两枚M1芯片堆叠而成的 。 看来 , 华为想要用堆叠破局也是可能的了 。 除此之外 , 我国在EUV光刻机方面还突破了三大核心技术之二的光学物镜和光源系统 。
日本方面 , 4月1日 , 根据日经新闻报道 , 日本佳能正在开发用于半导体3D技术的光刻机 , 除此之外 , 日本佳能早在去年12月10日 , 就携手铠侠等合作合作伙伴 , 联合开发出了一种叫做NIL的工艺 , 有量产5纳米芯片的发展潜力 。
还有最后一个是俄罗斯 , 俄罗斯的科技虽然“傻大黑粗” , 但是并不代表俄罗斯就没有科研实力 , 毕竟前苏联可是能够和美国掰手腕的国家 。 因此 , 凭借着自己的科技实力 , 在今年4月份宣布要自主研发生产光刻机 。 而且 , 据说一出手就是大手笔 。
俄罗斯准备采用无掩模X射线打造光刻机 。 这种光刻机虽然供应链简洁 , 但是技术难度高 , 有多高呢?阿斯麦尔的EUV光刻机用的是极紫外光线 , 波长在13.5nm , 而X射线在0.01nm到10nm之间 。
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