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导读：明年交付！3D光刻机实现反超？EUV光刻机不再是必需品
【明年交付！3D光刻机实现反超？EUV光刻机不再是必需品】众所周知，光刻机是生产芯片的必要设备之一，也是现代工业文明最顶级的智慧结晶，一台领先的EUV光刻机中含有超过10万个零部件，而这些零部件则是来自于全球超过5000家供应商，足见其研发难度有多大；值得一提的是全球领先的EUV光刻机一直都被荷兰ASML公司所垄断，而ASML公司的总部又搬到了美国，所以EUV光刻机其实也受到老美的限制，并不能自由出货！

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俄选择研发“无掩膜X射线光刻机”
EUV光刻机作为生产芯片的必需品，一直以来都是供不应求的，但是现在EUV光刻机无法自由出货，所以也让很多国家开始打算自主研发先进的光刻机，这其中除了我国以外，还有俄罗斯也传来了新消息，俄将投入数百亿卢布去研发顶级的光刻机产品，而俄选择的则是比EUV光刻机使用的极紫外光源更强的“X射线”来研发光刻机，俄将研发一种“无掩膜X射线光刻机” ，从核心技术上进行反超！

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日本佳能重新研发光刻机
要知道，在全球芯片短缺的情况下，光刻机市场也将成为发展的关键，而且这是一个十分庞大的市场，既然市场有需求，那么就会有科技企业进行研发，所以这时候不少科技巨头企业都蠢蠢欲动，甚至就连日本的老牌光刻机巨头企业佳能和尼康也已经宣布将重新研发光刻机；要知道，日本佳能和尼康作为光刻机的鼻祖，在这一领域的研发实力也还是比较强的，如果不是老美的打压，那么在光刻机市场上也就没有现在ASML的什么事儿！

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明年交付！3D光刻机实现反超？
当年日本在光刻机领域的实力是排名全球第一的，但在老美的“排挤”之下，日本佳能和尼康等光科技和巨头很快就败下阵来，而ASML也是这时候才趁机崛起的，所以在光刻机领域日本科技企业也是有实力进行研发，而现在日本光刻机巨头佳能已经宣布，将重回光刻机领域进行研发，并最快在明年交付一台3D光刻机，而这一3D光刻机将通过实现堆叠复数半导体芯片，从而增加芯片的性能，这样就可以直接绕开攻克EUV光刻机光源的问题，并对EUV光刻机进行颠覆和反超！

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EUV光刻机不再是必需品
一直以来，荷兰ASML公司都垄断着EUV光刻机的市场，仅仅是在2021年， ASML就实现了186亿欧元的营收，这也说明光刻机还是比较赚钱的；所以日本佳能等科技巨头企业自然也就坐不住了，想要去在光刻机领域实现反超，只要实现新的技术层面的突破，那么EUV光刻机也将不再是必需品！

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如今，全球芯片短缺，很多国家都在大力的发展半导体芯片产业，随着全球市场对芯片的需求不断增加，那么也将对生产芯片的必要设备光刻机产生庞大的市场需求，这时候俄日都进入光刻机领域进行研发，很显然也是想要和ASML抢夺市场，只要研发出了性能更强的光刻机，那么EUV光刻机就有被替代的可能，让我们拭目以待吧！