芯片|中国公司再次“突破”,关键设备研发成功,助力国产芯崛起!

芯片|中国公司再次“突破”,关键设备研发成功,助力国产芯崛起!

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芯片|中国公司再次“突破”,关键设备研发成功,助力国产芯崛起!

生产一颗成品芯片需要历经漫长的过程 , 每一颗芯片诞生 , 可以说都是人类科技发展的结晶 , 因为要将这颗芯片生产出来 , 所涉及的环节、设备不是三两句话能够说清的 。

简单来说 , 一颗芯片需要历经设计、制造、封装测试等多重环节 , 每一项环节都不能省去 , 而在这些大环节中 , 又包含着众多小环节 。
就拿芯片制造过程来说 , 其中的难点可以概括为两类 , 一类是原材料的生产能力 , 还有一类是先进制造工艺设备 。
在原材料环节 , 中国的芯片就卡在了源头上 , 生产芯片的原材料是多晶硅 , 我们虽然可以从沙子中获取到硅 , 但其纯度无法做到99.99999% , 而原材料目前基本被日本、德国等国家的企业所垄断 。

再就是光刻胶 , 过去光刻胶同样长期被日本企业垄断 , 作为高值耗材的产品 , 中国每年都要从海外大量进口光刻胶 , 上海新阳、南大光电等企业纷纷取得突破 , 已经掌握了高端光刻胶的生产工艺 。
在设备环节上 , 平常提到最多的就是光刻机 , 因为光刻机是最复杂及最核心的工艺设备 , 此前全球能生产高端光刻机的厂家有三家 , 分别是荷兰ASML、日本尼康和佳能 。
可昂贵的研发成本让尼康和佳能难以承担 , 所以高端光刻机生产商就只有ASML一家 , 其占据全球光刻机市场出货量的90% , 中国却受限于《瓦森纳协定》 , 几乎无法购买到先进的EUV光刻机 。

除了光刻机以外 , 生产芯片还需要用到蚀刻机 , 它的作用是将光刻机光刻好的芯片电路图进行逐一雕刻 , 并且每一环节都不能出错 , 在指甲盖大小的芯片进行这番处理 , 雕刻难度是很高的 。
不过中国在这一方面却取得了出色的成绩 , 国产半导体设备厂商中微公司就成功实现了突破 。
近日 , 中微董事长尹志尧在年度业绩会上透露 , 公司正在开发新一代的刻蚀设备 , 该设备可用于5nm以下逻辑工艺、1Xnm的DRAM芯片和128层以上的3D NAND芯片等产品 。

同时他还提到 , 中微公司的刻蚀设备在国内主要客户端市场的占有率正在不断提升 , 开发的12英寸高端刻蚀设备 , 已经运营在国际知名客户65nm到5nm等先进的芯片生产线上 。
而且公司应先进集成电路厂商的需求 , 开发出了小于5nm刻蚀设备用于若干关键步骤的加工 。
事实上中微公司提到的国际知名客户就是台积电 , 所以小于5nm的蚀刻设备接下来也会被台积电采购 。

如今随着中微公司的崛起 , 很多公司都已无法离开中微公司生产的设备 , 其中也包括一些美方的公司 , 所以美方只能和中微公司达成协议 , 允许其在美市场上交易 。
从零做到全球领先 , 中微公司其实就是中国半导体产业崛起的一个缩影 。
【芯片|中国公司再次“突破”,关键设备研发成功,助力国产芯崛起!】尽管我们现在还需要在很多地方加强努力 , 但笔者始终坚信 , 只要中国科学家齐心协力 , 就一定能够取得巨大突破!对此你怎么看呢 , 欢迎评论、点赞、分享 。