比原子弹更稀有，全球只有两个国家掌握，光刻机为啥这么难制造？自步入二十一世纪以后

自步入二十一世纪以后，人类发展的核心科技就有一个非常耀眼的关键词，那就是“芯片” 。

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如今，芯片的运用可以说无处不在，对于军事方面时，甚至会对世界未来的发展局势产生深远的影响，因此各个国家都对自身的芯片技术实行严格的技术封锁。
而除了芯片本身所承载的研发技术以外，还有一个将全球大多数国家都拦截在外的芯片制造技术，那就是“光刻机” ，从某种程度上来讲，它甚至比原子弹还要稀有。

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目前，世界上完全掌握光刻机制造技术的只有日本与荷兰两个国家，并且还无法实现独立自主的生产。那么光刻机究竟是什么？为什么研造难度如此之大呢？

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光刻机是什么
芯片对于大家来说都并不陌生，大部分的电子产品内部都有芯片的存在，而光刻机就是制造芯片的核心设备之一。

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我们先从名称上来剖析，所谓光刻，就是指先用光线来制作一个图形，然后在硅片表面均匀的抹上一层特质胶，随后再将掩模版上的图形转移到光刻胶上，从而将器件或者电路结构临时复制到硅片上的过程。

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光刻机在芯片加工的过程中，主要是通过光源能量以及形状控制等手段，将稳定输出的高功率光线透过掩模后，经过物镜补偿等各种光学误差，将原本硕大的线路图等比例缩小后映射到硅片上，再通过复杂的化学方法“显影技术” ，最终得到带有设计电路图的硅片。

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除了在芯片上的用途以外，光刻机还可以作用于封装以及投影，只不过从技术难度上来讲，用于生产芯片的光刻机是最复杂的。

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目前芯片光刻机也是我国在半导体制造设备上最大的技术短板，国内绝大多数原晶厂的光刻机都只能进口，并且在进口光刻机的选择上只能去选择中低端光刻机，因为技术封锁的原因，高端顶级光刻机是禁止出售的。

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光刻机的制造难度
光刻机是集数理化为一体的高精度仪器，光是组成一台光刻机的零件就超过10万个。

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值得一提的是，尽管荷兰与日本掌握了光刻机的核心制造技术，但是目前世界上没有哪一个国家能够独立制造出光刻机来。
即便是荷兰ASML公全程操刀制作，其内部90%的零件都需要从其他国家进口，其主要的零件供应商就有17家。

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其中光路系统来自于德国蔡司，光源与计量设备分别来自于美国的Cymer以及是德科技。

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光刻机最主要的组成部分是光源，以EUV光刻机为例， EUV光刻机的光源来自于XYmer ，其光源波长为13.5纳米，要得到这么短波长的光源，就需要用250功率的CO2激光以每秒5万个的频率，轰击滴落的金属锡滴液，而每一滴金属锡帝业的直径不过20微米。