比原子弹更稀有，全球只有两个国家掌握，光刻机为啥这么难制造？( 二 ) 自步入二十一世纪以后

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再说光刻机里的第二个核心零件，反光镜。

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EUV光刻机中的反光镜来自德国蔡司，这片反光镜共有40层，每一层镜面都非常光滑，可以做到只反射13.5纳米的光源。
即便是这样，在光刻机内部空气的作用下，经过层层反射后，也只剩下2%左右的光线强度。

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由于内部零件组合功率都很大，再加上对空气的严格要求，光刻机的工作环境每小时必须要经过超过30万立方米的空气才能保证反光镜的正常运行，所以光刻机是名副其实的耗电大王。

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除了耗电量巨大以外，光刻机还是非常耗水的仪器，因为在缩短光源波长的过程中，需要连续不断以超高速度对金属锡进行轰击。
所以光刻机在工作时，其内部温度非常高，如果要保持长时间的正常运作，就必须每秒钟用4000升水来对其进行降温冷却。

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【比原子弹更稀有，全球只有两个国家掌握，光刻机为啥这么难制造？】当光刻机所有的零件组装完毕时，整台机器的重量可以达到180吨，光是运输就需要42辆卡车。
可不要以为组装完成就可以直接投入使用了，一台高精度的光刻机在进入工作模式之前，光是调试就需要花费超过一年的时间。

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我国光刻机研发进度
前面我们说过，芯片以及光刻机在国际上都具有非常重要的战略意义，所以在技术上的封锁非常严格。
再加上美国对中国科技发展的打压，中国甚至都不能成为ASML的大客户，因为在光刻机进口上就已经被美国卡了脖子。

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究其中国多年未在光刻机技术上有所突破的本质原因，其实并不是技术难度，也不是研发成本，而是在市场上。

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在国际上，荷兰ASML公司是占有了100%的光刻机市场，即便是中国在投入了大量的资金以制造光刻机，但依然难以与ASML公司争夺市场。
而如果单单以国内的少数芯片制造公司为销售目标的话，那么实际上研发光刻机的意义反而不大。

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当然，这也不是说我们就放弃了对光刻机的研发，只不过相比起一股脑扎进高端光刻机研发的火海中，如果能够买到自然是划算的多。
那么在买不到的情况之下，从相对低端的光刻机开始研发也未尝不可。

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结语
有很多人都很关心中国是否有能力研发出成熟的光刻机，这个答案是肯定的。
只不过中国制造固然能够彰显出我国的科技实力，但是在不断的发展过程中，我们逐渐发现了一个世界运行的本质，那就是这个世界本身就已经被分了工。

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虽然分工之间没有明确的界线，要越过界限也并非是什么不可能的事情，但是如果越过分工的代价大于得到的回报，那么我们就必须在付出与回报之间找到一个平衡点，而这个平衡点对于我们来说，叫做“以买代造” 。