等离子体|我说美国怎么能控制最先进的EUV呢等离子体

【等离子体|我说美国怎么能控制最先进的EUV呢】

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Zplasma Inc. 是一家极紫外光 (EUV) 光源初创公司，在 EUV光刻领域的众多公司进行谈判，包括光源供应商和领先的光刻设备制造商ASML寻求500万美元的风险投资或战略企业投资投资。该公司孵化于美国华盛顿大学Z-Pinch实验室，需要资金来开发原型源模块，该模块将能够在 EUV 光刻扫描仪的中间焦点上提供 200 W的功率。这应该允许每小时生产 125 个晶圆。

如今，我们都很清楚：2012年， ASML的第一批NXE:3300 生产型 EUV 光刻机的EUV光源仅有50W 。那么对于这家提供200W EUV模块的初创，以及区区 500 万美元的投资， ASML是否投资了呢？

我们简单地梳理一下：过去半年，我们曾经谈过几种1000W级的EUV光源方案，例如Lycean的紧凑型加速器、日本KEK的自由电子激光。另外谈到100 W级的基于等离子体的方案，仅有LPP和DPP 。而Zplasma的流动式Z-Pinch等离子体技术是资讯中报道的第三种基于等离子体发光的可达100W以上规模的EUV光源技术。那么，在美国另一家企业Cymer成功获得LPP光源功率突破之后，流动式Z-Pinch方案有持续性的进展吗（请注意，流动式Z-Pinch区别于我们此前多次提到的美国Energetiq的三束线Z-Pinch技术）？

最新的消息是：Z-Pinch技术孵化的第二家企业Zap-Pinch获得2750万美元，将流动式Z-Pinch技术用于搭建无磁场惯性约束核聚变装置！如果我们考虑到整个核聚变领域几乎都在研究等离子体，而商用化的EUV光源恰恰也是基于等离子体--了解这一简单的事实，便很容易理解为何Z-Pinch实验室同时出现100W级EUV光源初创和惯性约束核聚变初创了。

这里展示的是美国科研体系“水下冰山”的一些故事：它不仅告诉我们“光刻机是人造的，不是神造的”这一事实，更显著的揭示了“光刻机到底是谁造的、以及怎么造的”--它绝对不是缺啥补啥的攻关模式，而是从大量的技术池里挑出来的最优组合解。