1.8nm！清华大学立大功，国产EUV光刻机终于完成最后一块拼图我国在很多领域都在不断突破

我国在很多领域都在不断突破，不断创新。即使是曾经没有接触深入的领域，科学家也能凭借着超人的智慧将这些领域的问题一一击破，从而达到世界领先水平。

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近年来中国芯片大有崛起之势，据媒体报道，清华大学召集尖端人才组建了一个科研团队，专门研制双工件系统，他们的研究卓有成效，在这一领域全面实现的升级水平可以达到全球顶尖，应用精度可以达到1.8nm ，能够达到这样的水平是值得国人骄傲的。
华为苦于没有企业能够制造出来
可以毫不骄傲的说华为海思设计出了全球最顶尖的麒麟芯片，但在台积电断供之后，华为老总任正非无奈的表示没有企业能够制造。

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在光刻技术自主研发方面， ASML曾经大方表示把图纸交给中国也造不出，要知道EUV拥有十万个精密零件，光源，光学镜头，双工件台系统，这三项是难度系数最高最核心的技术，无疑是攻破EUV的三座大山。
美方对华为等中企实施芯片禁令的根本原因是什么？
半导体行业内有一个共识，那就是一代芯片，一代设备，美方一直对华为等中企业虎视眈眈，甚至实施芯片禁令，那是因为在国内市场缺乏包括EUV光刻机在内的制造设备，美方比较害怕我们一旦发展研制这方面的尖端高科技，他们这方面的技术在全球就会失去市场。

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ASML不看好我们因为什么？
ASML之所以曾经调侃把图纸给我们也造不出的原因是他本身对垄断双工件台技术很自信，双工件台是他们在EUV光刻设备的独有技术，就连日本的尼康，佳能都不能与他们相比。他们认为我们实现不了高精尖光刻设备国产化，而令他们没想到的是我们在不久的将来可以拥有这项技术。

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【1.8nm！清华大学立大功，国产EUV光刻机终于完成最后一块拼图】中科院，清北高校科研机构曾经都义无反顾开设这一课题的研究，研究的结果却收效甚微，直到今年初，由唐传祥教授带队，清华大学成立科研团队，这些技术才一一被他们找到答案，经过他们不懈的努力，探索出了一种新型加速粒子加速器“稳态微聚束”已经通过了SSMB认证，攻克了核心光源技术问题，他们一开始认为EUV设备的核心光源技术是极紫外光，根据实验的不断推进也证明了他们的假设，他们的角度是正确的，因为波长可以从太赫兹覆盖到极紫外光波段。

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他们这一研究发现业界人士表示他们可以研发出自主光源， EUV光刻机的研发就相当于成功了一半。曾经那些跟着嘲笑我们给图纸也造不出EUV光刻设备的人士听到这样的消息立马改口，他们又觉得中国会在5年之内攻克所有尖端技术设备，包括EUV 。
如今ASML肯定会担心我们突破了EUV设备之后，他们的市场是否会受到冲击？科技的博弈终归是核心技术的博弈，相信这一领域的科学家早已意识到这样的问题，努力突破核心技术，把高端核心技术放在科技发展首位，能够做好其他国家没有的核心技术。

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我们的科学技术才能提高到他们望尘莫及的高度，也相信有我国科学家的不断努力，一个又一个的高端技术会被他们突破，并且能够做到全球顶尖水平，一定会让别的国家刮目相看，也会达到我们的预言在5年之内这些技术都会被我们突破吧！大家认为呢？