光刻机产业发展到现在 ， 一共经历了五代工艺 ， 按照光源来划分 ， 分别是g-line、i-lien、KrF、ArF、EUV 。 最高端的是EUV光刻机波长为13.5nm ， 用于量产高端芯片 。
通过对照可以发现 ， 接近式光刻机的工艺进程还处在低端阶段 ， 拓展性很强 。
不过光刻机的价值不能完全用工艺进程来衡量 ， 还需要看使用需求 。 如果只是简单的分立器件制造 ， 或者造成熟制程芯片 ， 根本不需要顶级光刻机 ， 中低端光刻机也能行 。
上海微电子做的是封装光刻机 ， 看似价值不如前道光刻机 ， 但随着封装产业的持续发展 ， 许多行业巨头开始重新规划先进封装技术 。 大力布局芯片堆叠 ， 小芯片技术等 。
如此一来 ， 上海微电子的封装光刻机会迎来更多的市场机会 。 所以找到适合的发展方向也有重要 ， 在符合自身发展需求的背景下 ， 往往能得到更大的产业回报效率 。
同样的道理 ， 大族激光接近式光刻机投入市场 ， 也是按照自身需求来发展 ， 意义更大 。
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