光刻机|超142台EUV光刻机，ASML已经有点等不及了极紫外光刻|asml

文章图片

文章图片

文章图片

在光刻机领域内， ASML的技术最先进的，因为目前仅有ASML能够研发制造EUV光刻机，而该光刻机又是生产制造7nm以下芯片的必要设备。
据悉， ASML早在2018年就正式官宣了EUV光刻机，并于次年开始交付出货，台积电等厂商随即就推出了EUV工艺的7nm芯片。
数据显示，目前ASML的EUV光刻机出货量已超过142台，其中， 2020年实现了超100台的里程碑， 2021年全年出货42台EUV光刻机。

尽管EUV光刻机的总出货量超过了142台，但ASML仍不是很高兴，原因是ASML的EUV光刻机仍不能自由出货，甚至都不能出货到外企中国分厂。
另外，台积电明确表示，用DUV光刻机也能够量产5nm制程的芯片。
而佳能、铠侠等联合推出了NIL工艺，在不用EUV光刻机的情况，也能量产5nm芯片，预计2025年实现。
最主要的是， NIL功能大大降低芯片生产成本，尤其是设备采购成本(主要指EUV光刻机)和电耗成本，并且明确表示将会在全球范围内推广该工艺。

也就是因为这些事情让ASML不高兴，再加上， EUV光刻机迟迟不能自由出货，这也让ASML已经有点等不及了。
要知道， ASML已经明确表示，将会加大在中国市场的布局，并在中国内地建设维修中心，并进一步扩大研发中心的规模。
不仅如此， ASML还明确表示，加大EUV光刻机的产能，计划在今明两年共计出货115台EUV光刻机，这样的产能相比2021年而言，提升都是20%以上。
最主要的是， ASML已经开始交付升级版的EUV光刻机，其具备更高的光刻精度，每小时曝光晶圆在200片以上，并计划在2025年实现全球EUV光刻机安装使用超60% 。

这些都是ASML等不及的证据，当然， ASML加速提升产能和技术迭代，实际上都是为了实现自由出货，缓解自身的压力。
首先，加大EUV光刻机，就能够加速实现EUV光刻机自由出货。
EUV光刻机不能自由出货，一方面就是因为产能低，导致EUV供不应求，也导致EUV工艺没有普及，被视为先进工艺。
一旦EUV光刻机大量上市，实现EUV工艺广泛应用，届时， EUV光刻机自由出货自然就是水到渠成，毕竟， EUV光刻机那时候就不再是先进的工艺。

而且， EUV光刻机大量普及应用，走在NIL工艺前面，即便是佳能、铠侠等有心推广NIL工艺，但市场基本上也将被ASML占领了。
其次，加大技术升级，实现EUV光刻机迭代，也是为了自由出货。
EUV光刻机出现后，其就不能自由出货，因为这是目前最新先进的光刻机设备，相比之下， DUV光刻机却能够实现自由出货，中芯国际还一次性签订了11亿美元的采购协议。
这意味着新一代光刻机出现，上一代光刻机基本上就能够实现自由出货。
所以， ASML加速技术迭代，推出了升级版的EUV光刻机，并在2025年推出High-NAEUV光刻机。

其目的就是加速实现现有型号的EUV光刻机自由出货，毕竟，升级版的EUV光刻机的NA值为0.55而High-NAEUV光刻机的NA值会更高。
但现有EUV光刻机的NA值仅为0.33元，而更高的NA值意味着更高的生产效率和生产精度，其大量上市后，现有EUV光刻机出货相对就容易多了。