毕竟芯片需要大量的供应 , 才能对电子产品的换代 , 起到稳固的保障 , 如果只能少量的制造 , 对于整体芯片的精度升级 , 是杯水车薪的 , 只能在高精度仪器的定制方面去适应市场 , 那就是说暂时来看 , 美国的电子束光刻机无法和荷兰的光刻机进行PK , 毕竟不具备量产实力 。
那么我国的超分辨率光刻机 , 在投入使用后 , 已经开始量产22NM的芯片 , 而且还会在不久的将来 , 尝试和突破量产7NM制程的芯片 。 看来我国的光刻机研发 , 还大有可为 , 而且如果能够突破量产的瓶颈 , 就会超越美国的电子束光刻机 , 一跃成为国际方面光刻机的新型技术代表 。
【阿里巴巴|中国造出“新型光刻机”,可实现22nm工艺制程,现已投入使用】也期待我国的新型光刻机尽快完成升级 , 还能在现有基础上 , 取得更大的突破 , 打破西方国家的技术垄断 , 早日实现高精度芯片国产化!
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