给国产光刻机泼冷水？中国院士揭开自研难题，其实还有3个出路如果说芯片是阻碍中国科技行

如果说芯片是阻碍中国科技行业发展的一座大山，那光刻机就是矗立在这座大山面前的一座雄关。
就拿华为来说吧，作为中国实力最强的民营科技企业，连续5年蝉联中国第一大民营企业，持有专利超过10万件，最近10年投入研发资金超过7200亿元。华为旗下的通信设备、智能手机、服务器、云计算等业务与国际巨头同台竞技而不落下风。

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就像蚂蚁能绊倒大象的寓言故事一样，强大的华为也被小小的芯片给限制住了。华为消费者总裁余承东悲愤又无奈地表示，由于美国的4轮制裁，导致华为大量的产品无法生产而严重缺货，愧对消费者的厚爱和期盼。
华为之所以受困于芯片供应，主要是因为国内在芯片制造领域薄弱，没有能够替代台积电的芯片制造企业。而且制造芯片的关键设备光刻机也是进口而来，国内想要实现芯片自主化，光刻机是必须突破的难关。

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2018年《科技日报》评选制约我国工业发展的35项关键技术中，光刻机名列第一。可以说，突破高端光刻机的限制几乎已经成为全体国人的共识。然而近期中国工程院院士吴汉明却给热情高涨的国人“泼了一盆冷水” 。
在贵州举办的数字博览会上，吴汉明直言，光刻机是全球化的结晶，一个国家或一个地区独立制造光刻机是不现实的！

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这番言论很快引起了网络上的争议，有些人认为吴汉明是基于当前光刻机市场的现状做出的正确判断，也有网友认为吴汉明是长他人志气，灭自己威风，强行夸大了中国突破高端光刻机的难度。
平心而论，吴汉明的观点确实有一定的道理。以ASML最顶级的EUV光刻机为例，里面包含了10万多个零部件，分别来自全球各个国家的供应商。
其中荷兰制造的腔体和英国制造的真空系统占32% ，美国制造的光源系统占27% ，日本的材料占27% ，德国的光学系统占14% 。

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可以说， EUV光刻机就是博采众家之长，是全球顶尖技术的集大成者。也难怪ASML的总裁口出狂言，即便把EUV光刻机的图纸给我们，我们也制造不出来。
光刻机的制造涉及众多的环节，光源、光学镜头、尖端材料、真空系统、轴承等等，这么多的尖端技术如果全部让国内的企业攻关突破，而且是在西方企业建立的严密专利封锁之下，确实有些勉为其难。
那么在暂时无法解决高端光刻机之前，中国的芯片产业和科技企业路在何方？难道就要受制于人吗？立足当下的现状来看，其实有三个选择可以努力。

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其一，率先重点解决10nm工艺以上的芯片的自主可控。吴汉明院士在演讲中分享了一个观点，就是本土可控的55nm芯片比完全进口的7nm芯片更重要。原因很简单，在全球芯片市场， 10nm工艺以下的市场份额仅有17% ，而10nm以上的市场份额占83% 。
只要解决了10nm以上成熟工艺芯片的自主化，基本能够满足大部分中国企业所需。对于华为等少数企业需求的尖端芯片，可以采用堆叠的技术方式（小芯片）实现性能的突破。这一技术中芯国际在蒋尚义的带领下正在研究。