芯片|EUV光刻机没用了？日本之后，中国高端芯片解决方案来了( 二 ) 光刻机|极紫外光刻|it芯片|重器

台积电3nm的性能提升也仅仅比5nm提高了10%到15% ，花费了200多亿美元也无法实现翻倍的性能，足以见得高端芯片的路已经到了末期。

难道EUV光刻机没用了？其实不然，虽然高端芯片提升变得十分困难，但EUV光刻机依然是最好的高端芯片制造工具，是ASML以及全球科研公司花费几十年探索出来的最佳路径，也是目前唯一能实现高端芯片量产的解决方案。
可问题是EUV光刻机还能走多远呢？恐怕ASML下一代的NAEUV光刻机就是终点了。
ASML作为唯一能量产EUV光刻机的厂商，已经决定在2024年量产下一代的NAEUV光刻机。到时候会采用0.55数值孔径系统，帮助台积电，三星实现2nm芯片的量产，甚至是1nm芯片的突破。

NAEUV光刻机会改写半导体行业的游戏规则，让摩尔定律能够延续下去。但究竟是五年还是十年，就不好说了。毕竟NAEUV光刻机再强，也是有性能极限的。
而且巨大的芯片制造成本让设计厂商不敢轻易尝试，谁也不愿意花费大价钱去充当试验品，到时候造出来的芯片没有理想的性能提升，岂不是白费力气了。

写在最后
人类发展高端芯片到了3nm的水准，就算摩尔定律还能维持十年，可巨大的成本也不是消费者能轻易接受的。所以探索其它的高端芯片解决方案显得十分关键，也许目前还处于理论，但一切的实践都是从理论开始出发的。
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