去年底台积电宣布3nm量产，预计今年年中之后在终端层面开始大规模应用 。
随后有业内专家透露，台积电3nm的良率可达80%，非常可观 。
然而，提前半年投产3nm的三星，则有些尴尬，据说良率仅20% 。这个表现，难怪没有大厂敢下单 。
虽说三星上马了GAA晶体管，技术难度高算是情有可原，然而和台积电差距这么大显然不是长久之计 。
据DT报道，三星正在调整的一个优化方案是，在3nm EUV光刻中引进穿透率达90%的掩模保护膜，供应商是本土公司S&S Tech 。
EUV光刻与此案的ArF（氟化氩）曝光设备不同，光反射到镜子后，再到晶片，因此光源损失很大 。要想使光源损失降到最低，必须使用穿透率超过90%的EUV用保护膜，从而保护光罩 。
三星这一调整，能否有效提高3nm GAA芯片的良率，还有待检验 。
【三星|芯片报废率80%的3nm可怜虫：这下有救了】
文章图片

• 苹果|国产屏崛起 击败三星！京东方取得iPhone 15/Plus大部分显示屏订单
• 笔记本|美宣布新一轮对华芯片制裁，中国反应冷淡，自力更生比制裁更有效
• 杜比视界|一加11搭载三星2K柔性微曲屏：安卓首发随帧变动技术
• 三星|传苹果AirPods、Apple Watch和MacBook均遭砍单
• 华为|华为折叠屏Pocket S 512GB版本正式开售，采用4G芯片，7488元
• 苹果|续航实测压过荣耀三星，OPPO Find N2电量控制有一手
• 台积电|三星挑战台积电3nm工艺失败：高通8Gen3订单，给了台积电？
• 芯片|一加11系列将于1月4日正式发布：标配第二代骁龙8
• 芯片|获Intel、高通力推：全新主动散热芯片方案有望超越风扇散热
• 三星|韩国全球排名力压日本 让韩网友兴奋：日本网友吐槽除了三星还有啥