芯片|中国国产高端光刻机崛起,高端芯片实现量产,美国封锁战略失败了

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芯片|中国国产高端光刻机崛起,高端芯片实现量产,美国封锁战略失败了

中国卧薪尝胆20年 , 国产光刻机终于崛起 , 高端芯片量产初步完成 , 美国半导体封锁战略失败了 , 美国妄图垄断高端半导体产业的梦想也破灭了 , 胜利的天平终于向我们倾斜 , 这是一个值得全体中国人骄傲的时刻 , 一个应该被永远铭记的时刻 , 突破了高端光刻机限制 , 量产高端芯片 , 意味着中国向高端制造迈进从此没有阻挡 , 中国成为超级大国也将指日可待!
我国研制光刻机已经有20年的历史 , 这期间我们碰到了难以想象的困难 , 比如西方的围追堵截 , 每当我们光刻机稍微有点突破 , 西方就开始降价销售同档次的光刻机 , 导致我们即使造出了光刻机也缺乏订单 , 这让研发企业生存困难 , 国家不得不出手支持他们 , 就这样扶持了整整20年 。

在这期间 , 造不如买的思想一直蚕食着国内企业家 , 这让光刻机研发更是举步维艰 , 结果让我们严重依赖上了西方技术和设备 , 当美国崛起屠刀时 , 我们才发现自己曾经的想法有多么可笑 , 所以前几年我们很憋屈 , 华为、中兴等被美国摁在地上摩擦 , 许多人对我国半导体的困境感到担忧 , 甚至还有专家跳出来 , 悲观地表示中国无法独立研发出高端光刻机 , 我们的高端芯片产业注定要被锁死在14纳米以下 。 美国当前的战略就是要垄断高端芯片的生产和研发 , 当然包括高端光刻机的研发 , 所以不断出口限制措施 , 打压对手的半导体产业 , 试图阻止对手突破14纳米及其以上芯片的生产 , 以及相应光刻机的生产 。
2021年7月20日 , 我写了一篇关于光刻机的内容 , 标题为《事关中美两国国运 , 半导体之争两年内分出胜负 , 我们胜券在握》 , 我在内容里就写到 , 中国只需要2年时间 , 就能突破高端光刻机 , 打破封锁在高端半导体领域站稳脚跟 。 当时有部分人对我这个预测嗤之以鼻 , 如今还不到2年 , 我们就真的做到了 , 突破了高端光刻机不说 , 还实现了高端芯片的量产 。 喜欢的朋友可以去看一看我当时写的内容 。

我们高端芯片真的量产了吗?我们高端光刻机真的造出来了吗?我想许多人看到这里依然将信将疑 , 接下来就是全篇的重点内容了 。
2020年 , 就已经有小道消息传出 , 上海微电子研发的28纳米光刻机已经成功 , 但是因为成品率不高 , 所以这个消息并没有公开宣布 , 因为这套设备还需要继续改进升级 , 否则难以用于商业化 , 这一点我在往期内容曾提到过 , 2021年5月份时 , 上海微电子一位重要工程师接受日媒采访时称:“我们的支柱产品是用于90nm制程的光刻机 , 用于28nm和14nm芯片生产的光刻机成品率还有提升空间 。 ”注意这两句话中的后面一句 , 已经公开暗示我们造出了28纳米的光刻机 , 但是成品率不高还需要提升 。
实际上在2019年底的时候 , 江苏省某重要协会就公布了国产光刻机的进展 , 称2020年28纳米光刻机将完成整机集成 , 什么意思呢?也就是28纳米光刻机所有零件都造出来了 , 接下来就是等待组装调试了 , 这个协会里有公司参与零部件的研发 , 所以他们才能提前知道得这么清楚 。

可以明确给大家说 , 28纳米光刻机我们在2020年就生产出来了 , 只是成品率不高一直在改进而已 。 所以我在2021年就预测 , 国产光刻机两年内破局 , 因为在当时那种全国重视的情况下 , 改进最多需要两年时间而已 , 当时是有钱有技术还有国家政策支持 , 更重要的是还有强大的压力 , 所以小改动难不倒他们 。