光刻机|比光刻机还重要？中国又1大国重器领先世界，让美欧不敢卡脖子刻蚀机|半导体|芯片

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随着国人对芯片领域的关心不断增多，很多人都知道了中国光刻机比国外落后的情况。不过在近日中国又1项和芯片领域有关的大国重器领先世界，让美欧不敢卡我们脖子，它就是等离子刻蚀机。那么刻蚀机是什么？它比光刻机还重要吗？

芯片的原理要知道刻蚀机和光刻机的关系，我们首先得从芯片的制造过程说起。所谓的芯片，就是表面有无数“刻痕”的半导体材料，当电流在这些刻痕中流通时，就可以通过关闭或开启刻痕中的一些节点，模拟出0和1的电子语言，从而产生数据。

在电路流通时，需要保证半导体材料上那些比头发丝还要细无数倍的刻痕不能有丝毫损坏和错误，不然电流流通时产生的数据就会出现错误。所以在半导体制造出“刻痕”时需要有极高的工艺精度，如此一来就产生了光刻机和刻蚀机这两种东西。
【光刻机|比光刻机还重要？中国又1大国重器领先世界，让美欧不敢卡脖子】
光刻机和刻蚀机的作用光刻机的作用是在半导体上喷涂一层膜，这些喷涂在半导体表面的膜上会有很多细小的缝隙，这些缝隙就是芯片所需要的“刻痕” 。在光刻机喷涂好膜后，刻蚀机就需要用化学或电解的手段侵蚀掉薄膜之间的缝隙。在侵蚀完成后，再在这些缝隙里沉淀金属，一枚芯片就做好了。

所以光刻机和刻蚀机是两道不同工序需要使用的机器，二者一样重要，不可相互替代。中国在光刻机领域比较落后，国际领先水平是能进行精度达5纳米的蚀刻，我国的的光刻机蚀刻精度则是22纳米，落后不少。不过中国刻蚀机的水平在国际上处于领先水平，目前能达到5纳米的刻蚀精度。

刻蚀机的区别刻蚀机在对芯片的处理工艺上，又分为干法刻蚀和湿法刻蚀。所谓的湿法刻蚀，是用化学物质刻蚀半导体，而干法刻蚀是用电解或等离子的方式刻蚀半导体。我国的等离子刻蚀机就是干法刻蚀的一种。湿法刻蚀在处理半导体时会在半导体表面留下很多化学物质，处理这些化学物质又需要很多成本，因此刻蚀机高端的玩法都是干法刻蚀。

但干法刻蚀技术门槛更高，以等离子刻蚀为例，它是用等离子体去轰击半导体材料。而等离子体是很小的，它会渗透进半导体以及覆盖在半导体表面的那层薄膜之间。等离子刻蚀机的技术不达标，就好比一个人用钢笔写字时发现墨水一沾到纸就会浸湿很大一片面积，写出来的字根本看不清是什么。

我国研制出先进等离子刻蚀机，证明了我国在相关技术领域已经走到了国际先进水平，相关的技术难点已经攻破。所以在制造芯片的技术上，中国有一半的技术步骤抓在了自己手中。等中国研制出了国际领先水平的光刻机，就再也不用怕被欧美卡脖子了。