euv|每台近 20 亿元，ASML 下一代 EUV 光刻机将提前量产：明年交付

IT之家 12 月 14 日消息，众所周知，目前 ASML 是全世界当之无愧的光刻机巨头，技术实力领先日本一众厂商，甚至此前总市值超 2800 亿欧元成为总市值最高的欧洲科技企业。
CNBC 报道称，这家疯狂的荷兰公司现在正在制造一种“可以重新定义电子产品”的机器。
据称，ASML 正在开发一种新版本的极紫外光刻机，将成为世界上最先进的芯片制造机器。新机器可以让芯片制造商研制出更复杂的芯片，为下一代电子设备提供动力。
今年 7 月，英特尔首席执行官 Pat Gelsinger 表示，该公司有望成为 ASML 新机器的第一个接收者，该机器被称为 High NA（高数值孔径）。
EUV 机器如何工作EUV 光刻机可将异常狭窄的光束照射到经过“光刻胶”化学处理过的硅晶圆上。在光线接触到化学物质的地方，晶圆片上就会产生复杂的图案，这些图案事则是由设计者事先精心规划的。这个过程被称为光刻技术，它就是目前集成电路上晶体管的出处。
晶体管是现代电子产品基本组成部分之一，从而使电流能够在电路周围流动。一般来说，芯片上的晶体管越多，芯片的性能就越强，效率也就越高。
IT之家了解到，并非 ASML 所有光刻机都支持 EUV 功能。EUV 是该公司近年为大批量生产引入的最新技术，而 DUV（深紫外线）仍然是半导体行业的主力需求。
塔夫斯大学弗莱彻法律与外交学院助理教授克里斯?米勒 (Chris Miller) 表示，芯片制造商希望在光刻技术中尽可能使用最窄的光波（波长），这样他们就可以在每块硅晶圆片上实现更多的晶体管。
开发新机器与 ASML 目前的 EUV 光刻机相比，高 NA 版本将更大、更昂贵且更复杂。
“它包括一种新颖的光学设计，需要明显更快的阶段，”ASML 发言人告诉 CNBC。他们补充说，高 NA 机器具有更高的分辨率，这将使芯片面积缩小 1.7 倍，芯片密度增加 2.9 倍。
“有了这个平台，客户将大大化简制造步骤，”发言人继续说道。“这将成为他们引入该技术的理由。该平台可显著降低缺陷、成本和周期。”

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▲ 图源 ASML
从目前已知的信息来，每台 EUV 光刻机都采用了超过 100000 个零组件，它们来着全球各大尖端科技厂商。直观一点，它们大概需要 40 个货运集装箱或四架大型喷气式飞机来运输。据报道，每一套光刻机的成本约为 1.4 亿美元。
“他们并没有进行限制，”米勒补充道，该公司的新型光刻机将支持在硅晶圆上进行更具体的蚀刻。
第一台高 NA 机器仍在开发中，预计从 2023 年开始提供先行体验，以便芯片制造商可以更快地开始验证并学会如何使用。然后，客户可以在 2024 年和 2025 年将以此进行自己的研发工作。从 2025 年开始，它们很可能用于大批量制造。
今年 7 月，英特尔首席执行官 Pat Gelsinger 表示，该公司有望成为 ASML 高 NA 机器的第一个接收者。
“我敢打赌，他为这个“首发”付出了很多利益，因为他肯定不是唯一一个想先拿到这台机器的人，”米勒说。
英特尔销售和营销副总裁 Maurits Tichelman 对此表示：“高 NA EUV 是 EUV 路线图上的下一个重大技术变革”，“我们已准备好接收业内首款量产的高 NA EUV 光刻机，并争取在 2025 年推出新产品”不过他拒绝透露英特尔订购了多少台新机器。
Tichelman 说，新的高 NA EUV 工具从 0.33 光圈镜头转变为更细腻的 0.55 光圈，从而实现了更高分辨率的操作。
据悉，更高的孔径可使得机器内部产生更宽的 EUV 光束，然后撞击晶圆时产生的强度就越大，从而提高蚀刻线条的精确度。这反过来又可以实现更精细的形状和更小的间距，从而增加晶体管密度。