关于光刻机，ASML做出了两点改变提到芯片

提到芯片，就不得不说台积电和ASML ，因为台积电是全球芯片制造技术最先进的企业，而ASML则是全球光刻机技术的最先进的企业，全球芯片发展离不开这两家企业。
另外，台积电和ASML还有很深的关系，当年是台积电、三星以及英特尔等联合投资ASML ，才有了ASML今天的地位。
也正是因为如此， ASML的光刻机总是优先分配给台积电。
数据显示，仅EUV光刻机，台积电预计在今年年底安装超50台，数量全球第一，相当于ASML一年半的产能。

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另外一份数据显示， ASML的光刻机在全球处于主导地位，尤其是在中高端光刻机领域内， ASML几乎垄断了市场。
例如， ASML研发的DUV光刻机，主要用于生产制造7nm以上制程的芯片，而EUV光刻机则用于生产制造7nm以下的芯片，也是目前唯一能制造7nm以下芯片的光刻机。
但由于美国的缘故， ASML的光刻机出口到国内受到了一些限制，先进型号的光刻机迟迟无法到货，就像EUV光刻机。

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即便是DUV光刻机出口到国内，也会受到一些阻碍，除非特定的厂商。
但进入2021年后，从ASML传来两则消息，关于光刻机， ASML也做出了两点改变。
首先是更先进的光刻机。
据悉，目前最先进的光刻机是EUV光刻机，其用于生产制造7nm以下制程的芯片，像7nm和5nm均没有问题。
2020年第四季度， ASML交付了第一台YieldStar385系统，其可以满足3nm芯片的生产需求。

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根据ASML早些时候公布的消息可知， ASML新一代NAEUV光刻机已经完成了设计，预计在2022年实现商业计划，其将成为生产制造3nm芯片的主力设备。
但在NAEUV光刻机的之后， ASML研发生产的光刻机将不再追求效率，而是更加注重环保，毕竟NAEUV光刻机的体积都相当大了，售价更是现有EUV光刻机的四倍。
但又有新消息称， ASML已经做出改变，全新一代光刻机预计在2025年商用， ASML在追求的环保的同时，仍要继续提升效率，目的是将硅芯片的体积缩小1nm ，甚至更小。

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消息还称， ASML预计在2025年上市的全新光刻机，其NA将高达0.55 ，这意味着光刻机的分辨率提升了70% ，而现有EUV光刻机的NA值是0.33 。
其次， ASML向国内企业出售了12亿美元光刻机技术等。
国内市场是全球最大的芯片消费市场，自然也对芯片制造设备有巨大的需求，但由于ASML也无法自由出货，其研发生产的光刻机出口给国内厂商也受到了一定的限制。
2020年下半年， ASML曾明确表示，将加快在国内市场布局，同时，其还表示，向国内厂商（特定厂商）出口荷兰ASML生产的DUV光刻机是不需要许可的。

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虽然ASML已经明确表态，但始终都没有全新的ASML光刻机设备等到达国内厂商手中。
进入2021年后， ASML做出了改变，其拿到了相关许可，直接与国内企业中芯签订了12亿美元的光刻机技术协议，向中芯出口光刻机等设备。
要知道，中芯是国内芯片制造技术最先进的企业， ASML向中芯出售12亿美元的光刻机设备等，自然能够提升中芯的芯片制造技术和芯片产能。