对话张懋中：高校的价值是发明未来而非眼下救急，产业科研忌跟风( 二 ) 设备|中芯国际|工艺|抛光|中银

张懋中以荷兰光刻机巨头ASML公司为例，“20nm制程以下，全世界现在只有一家公司能做到，就是荷兰的ASML。”ASML能在光刻机领域脱颖而出，原因之一是能择善固执，千山独行，有始有终。
光刻机是制造芯片的核心装备，它采用类似照片冲印的技术，把母版上的精细图形通过曝光转移至硅片上。光刻机包括DUV（高紫外光）光刻机和EUV（极紫外光）光刻机等多种类型，DUV覆盖7nm及以上制程需求，随着先进制程向5nm及以下进化，EUV成了刚需。
“当别的公司都在继续改进它们所谓的传统光源来做光刻时，ASML想到最终要解决问题还是要进入DUV和 EUV范围的光源。它花了相当长的时间来做这件事，当时没有其他公司跟进，都认为不可能或者投资太大而不愿意做。等到它一做出来以后，其他公司已经太迟了，包括日本几家著名的光学公司全部都给关了。”张懋中表示，这是一件残忍的事，实际上做决定时的方向，也就是在所谓的“定义未来”之时的方向，已经决定是能生存还是被淘汰。
ASML的成功在全球范围内是否可以成功复制？张懋中认为“永远都有更好的东西”，“我相信已经有很多其他公司在发展更好的东西了，但是这段时间ASML是独家。”
研究型大学的价值是“发明未来”而非“眼下救急”，学术界科研要避免去热闹领域
当前，中国集成电路产业快速发展，但在半导体设备、芯片设计软件等领域仍面临痛点。而在集成电路产业人才方面，《中国集成电路产业人才白皮书（2019-2020年版）》显示，我国集成电路人才在供给总量上仍显不足，到2022年，芯片专业人才缺口预计超过20万人。
集成电路产业遭遇人才之渴，如何培养市场所需的芯片人才？张懋中对澎湃新闻（www.thepaper.cn）表示，“这就是困难的地方，如果你已经知道这是一个急需的市场，它已经搞得风风烈烈、又热又闹了，这个时候应该想想怎么走在前面。如果大家都做3nm、2nm，你再去追赶3nm、2nm，等你赶到的时候它可能已经是1nm以下了。”
张懋中强调，所以今天，尤其是学术界，研究型大学很重要的价值在于“发明未来”，而不是救当下之急。
“今天产业界遇到的眼前困难都是类似救火性质的，但不应把大学做研究的精英充当救火队队员，这是误用。”他表示，产业界遇到的当即问题只能自行解决，不能也不应仰赖大学，大学无法既“发明未来”又“拯救当下”。
那么大学要做什么？“大学要往前走，替产业界穿隧架桥，在前期先探寻和打通关节，甚至不可避免地先尝试失败，以淬炼其创造力。”比如在光刻机领域千万不要停留在DUV/EUV，“DUV/EUV已经给ASML做掉了，我们是不是应该往往X射线、伽马射线走？可以往前走的更短的波还有的是。”
“我们要培养一个年轻人对科学追求的兴趣，教育他不只能够解决问题，他还得能定义问题。定义和解决问题，才是能发明未来的关键。”张懋中说，爱因斯坦规范了物理学的未来，乔布斯界定了移动通讯和消费市场的未来，那些获得诺贝尔奖的科学家也在各自领域发明未来。他们定义未来的方法不一样，但都以自己的方法定义了未来，也发明了未来。
那么中国能够定义和发明未来的人才在哪里？怎样培养这样的人才？张懋中表示，这是教育上最值得下功夫来思考的一个问题。
2019年从新竹交通大学校长的位置上退休后，张懋中回到洛杉矶加州大学任教。
谈到对踏入科研的年轻人的建议，张懋中告诉澎湃新闻（www.thepaper.cn），年轻科研工作者要具备科研热情、雄心、毅力，要耐得住寂寞，走自己的路，避免去热闹的研究领域，当一个研究课题太热闹时，“那里面找到金钻的机会并不大，因为人太多了，好东西早就已经掘拾光了。”