光刻胶|打破垄断，国产14nm光刻胶开始投产，南大光电立功了南大光电|芯片

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文|青源科技谈
芯片制造的流程是非常复杂的，需要使用各种各样的半导体设备和材料。其中光刻胶在光刻过程中用于保护晶圆衬底基座，并在晶圆表面呈现芯片线路图案。
全球光刻胶市场一直被日本垄断中，而中企传来好消息，国产14nm光刻胶开始投产了。这是怎样的破冰情况呢？打破光刻胶垄断有多重要？

国产光刻胶更进一步
一颗小小的芯片，背后是千亿美元的产业链，从设计到制造，再到封装测试，一系列的环节都需要大量的技术设施支持。软件层面的EDA ，硬件领域的光刻机，除此之外，看似不起眼的光刻胶材料也能起到至关重要的作用。
光刻胶在芯片制造行业只占很少的成本，可如果没有光刻胶，即便掌握高端EUV光刻机，也未必能将芯片图案曝光在晶圆上。
光刻胶是一种光敏化学材料，光刻机运作过程中，用于抗腐蚀图层，从而在晶圆表面得到所需的图像。

这么重要的材料，大部分的核心技术以及市场份额掌握在日本手中。总部位于东京的JSR是高端光刻胶供应商，可以提供大量的ArF ， EUV等光刻胶材料，占据全球30%至40%左右的市场份额。
还有东京应化这家日本企业，在EUV光刻机市场份额也超过了50% 。信越化学同样掌握高端光刻胶的核心技术，与JSR ，东京应化这几家日企垄断了全球90%的光刻胶市场。

市场上主流的光刻胶基本来自日本，台积电，三星根本离不开日本光刻胶供应。只是市场，技术掌握在对方手中，难免会受到制约。因产能和规则问题，日本企业未必能保证顺利出货。
所以掌握自主光刻胶显得十分重要，中国也有自己的光刻胶厂商，主要包括南大光电、上海新阳、晶瑞电材等等。
其中南大光电立功了，传来了ArF光刻胶破冰的好消息。根据媒体消息，南大光电可用于14nm的ArF光刻胶开始投产，正在对客户交付。

南大光电是国产光刻胶的领头羊，接连取得相应的突破进展。先是在今年第一季度建成两条ArF光刻胶生产线，然后又进行了客户验证，对ArF光刻胶的项目稳定推进。
南大光电的立功让国产光刻胶更进一步，在中低端光刻胶领域实现了大部分产品的国产化，面向高端也有一些布局行动。
虽然日本企业依然掌握核心技术和主要市场份额，但随着国产光刻胶技术的不断深耕，未来实现更大规模的出货，在国产生产线实现替代化，那么打破垄断未必不可能。

打破光刻胶垄断有多重要？
日本在光刻胶赛道起步较早，入局者较多，所以积累了大量的核心技术，形成知识专利体系壁垒。想要打破垄断的话，只能寻找更多的出路，探索更多的技术可行性。
因此花费的时间是非常多的，即便同样是KrF ， ArF制程，也得实现技术的唯一性。好的一面是，南大光电的技术具有唯一性和不可替代性等特点，是目前国产光刻胶领域的佼佼者。

经过二十多年的积累沉淀，南大光电可以为客户提供定制化产品服务，在客户的平台进行光刻胶产品验证，并进行调校，优化服务方案。面对日企的行业领先，打破垄断有多重要？