光刻机|美国万万没料到，中国光刻机后发制人！自主研发取得重大突破( 三 ) 芯片

现在，阿斯麦公司对中国的态度，正在明显改变。此前，迫于美国的压力，阿斯麦不敢对华出售光刻机。现在，阿斯麦在近期已经五次向中国进行示好，并表示将会扩大在中国的市场布局。而且，阿斯麦公司还表示，将会把28nm光刻机降价卖给中国。这种局面的出现，根本原因就是中国已经在半导体领域上取得了多项成果，完全了一次又一次的技术突破。作为光刻机巨头，阿斯麦明显看到了危机。因为EUV光刻机需要超过10万颗零件，连阿斯麦都无法取得自主制造，但中国现在已经完成了一半自主制造。可见中国在光刻机的潜能，令阿斯麦感到了恐惧。为了防止中国冲破EUV光刻机的封锁，阿斯麦只能选择低价政策，想要压缩中国国产设备空间，维持自己在光刻机的垄断地位。
但是，中国既然能冲破层层阻扰，取得一个个奇迹，完成高能辐射光源和真空镀膜设备等此前完全不敢想象的成就。作为中国人，怎么不为自己的祖国骄傲？
而且，除了上述两大设备外，上海微电子将推出封装光刻机，可以满足0.8到0.6微米分辨率的光刻需求，其精度小于100纳米，这套设备将主要用在高密度异构集成领域。
分析人士表示，上海微电子推出封测光刻机，不仅能给国内芯片封测厂商一个新的选择，打造一条完全国产化的产业链，不怕外国的卡脖子行为，还给封测企业面对海外光刻机厂商可以讨价还价的空间。
而且，上海微电子还将在今年年底推出28纳米，用于前道制造的光刻机，这将进一步加强中国进行芯片产业完全国产化的进程。