光刻机|美国万万没料到，中国光刻机后发制人！自主研发取得重大突破芯片

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众所周知，为了遏制中国崛起，美国在多个领域对华进行打压。而在科技方面，美国更是加紧了对中国的技术封锁。尤其是芯片领域，美国为了不让中国获得先进的芯片，无所不用其极。
在这场没有硝烟的芯片战役中，中国在芯片领域暴露了很多短板。然而，艰难的处境，吓不倒中国科研人员和相关企业。在他们的不懈努力下，中国在芯片领域取得了多项成就。这使得中国在芯片项目上，拥有了自己的技术。现在，中芯科技在14纳米芯片的制造能力上，已经完全达到了世界先进水平。这对中国而言，是一个非常好的消息。但分析人士表示，如果中国要在芯片领域实现真正的自主，必须要在高端芯片拥有一定地位。想要达成这个目标，中国必须自主研发出EUV光刻机。

然而， EUV光刻机对中国的芯片发展如此重要，中国却迟迟没有实现自主研发制造，这是为何？制造一台EUC光刻机，真的这么困难？
事实上，中国离自主研发EUV光刻机，只差最后一步了！荷兰光刻机巨头阿斯麦公司的CEO曾经表示，即使中国得到了EUV光刻机的图纸，也不可能制造出来光刻机。显然，阿斯麦对自己的技术非常自信，认为中国绝不可能掌握。这种言论，确实让很多中国网民非常气愤。然而，这也反映了一个问题，那就是光刻机的制造，非常困难，绝非易事。否则，阿斯麦公司是没有这番底气说出如此大言不惭的言论。
但是，很多事实已经证明一个道理，那就是言论放得越狠，脸被打得越肿。中国的科研人员，已经根据EUV光刻机的零部件作用，将其分为三层进行科研攻关。这三层内容，分别为双工件台、EUV光源和EUV光学镜头，这是现在世界最先进的高端EUV光刻机最重要的三个部件。
目前，中国科研人员已经成功实现了EUV光源的技术突破，制造出可以用在EUV光刻机上的EUV光源。
在EUV光源上，阿斯曼公司最常用的技术，来自美国和德国。在这项领域上，荷兰、德国、美国一直有技术交流，并对中国进行技术封锁。因此， EUV光源的技术，长期以来对中国都是难点。然而，任何艰难困苦，都难不倒中国。
央视新闻报道，国家发展和改革委员会已经立项进行支持，并由中科院高能物理研究所承建，中国首台高能同步辐射光源科研设备已经安装完毕。这台中国自主研发的高能光源，已经达到了世界最先进的第四代同步辐射光源水平。
这意味着中国在EUV光刻机的三大核心部件上，取得了光源领域的自主研发突破！在EUV光源上，中国彻底完成了全部国产化的过程。随后，中国自己的辐射光源技术，将被运用到更加广阔的应用场景中。
分析人士表示，作为复杂的先进设备， EUV光刻机的内部零件有10多万颗之多，可见其制造流程非常地复杂。但作为EUV光刻机的核心技术之一，光源技术必不可少。在这个技术领域，虽然荷兰阿斯曼公司是全球光刻机领军者，但他们在光刻机制造上有很多技术来源于进口。阿斯曼的EUV光刻机，近九成技术都是从国外进攻，其中将近三成的光源技术是由美国提供的。显而易见，美国在EUV光刻机中掌控的核心技术比例很大。因此，美国的对华芯片禁令，对阿斯曼公司对华出口EUV光刻机影响很大。即使中国企业和阿斯曼公司达成协议，并且支付了采购款。但阿斯曼的光刻机一直停留在荷兰港口，始终无法向中国供货。因为在美国的法规中，只要产品中含有来自美国的技术，其出口贸易必须得到美国人的同意才可以进行。