阿斯麦|为了「烧钱」竟把客户变股东，这家小镇企业如何成为全球第一？( 二 )

第一代产品太粗糙，卖不出去，阿斯麦找来德国光学大企业蔡司帮忙改进。第二代稍微好了一点，阿斯麦立马派人去半导体大本营美国硅谷推销，以低价促销量，在硅谷混个脸熟，挤进了由英特尔、 IBM 、摩托罗拉等巨头企业成立的 EUV 技术联盟，兢兢业业跟在巨头后面研究 EUV 技术。

1995 年，时任美国总统克林顿推出「信息高速公路计划」，半导体市场一片红火，阿斯麦趁机在荷兰阿姆斯特丹和美国纳斯达克同时上市。这一年，通过持续的技术改革配合营销，阿斯麦终于能有 14% 的市占率了。

一个小透明企业怎么在山头林立的半导体产业活下来？除了一刻不停地改进技术，挖深护城河，还要引进活水，把这条河用起来。

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埋头创新，灵活转向

最关键的转折出现在 21 世纪头几年。

光刻机关键技术的提升，依赖 3 个指标：综合因素 k1，波长 λ，镜头数值孔径 NA，但 k1 和 NA 的改进空间有限，各大光刻机厂商能拉开竞争差距的只有波长 λ。

彼时，尼康、阿斯麦都选好了各自前进的技术路径：尼康决定搏一搏 0.004nm （EPL）的波长，而阿斯麦坚定站在 13.5nm （EUV）阵营这边，顺带收获了好盟友，崛起中的代工大咖台积电。

台积电是芯片制造业的下游企业，客户都是电子产品制造商，深受「反摩尔定律」困扰。所谓反摩尔定律，不是说要推翻摩尔定律，而是从企业收益的角度，反过来看摩尔定律——如果一个 IT 公司今天和 18 个月前，卖掉同样数量、同样质量的产品，它的营业额就要降一半。

这就逼着硬件公司的迭代速度，必须跟上摩尔定律的更新速度。

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摩尔定律图示

2002 年，台积电的林志坚博士提出一个设想：在晶圆光刻胶上面加水，利用光的折射，把业界最熟悉的 193nm 光波长变为 134nm。这个设想被称为「浸入式 193nm 方案」，虽然和阿斯麦苦苦追求的 EUV 不是一个路子，却是成本更低、技术上更容易实现的操作。

凭借和台积电的好关系，阿斯麦迅速设计、生产出浸入式（DUV）光刻机，并送入台积电厂区试验。最终，台积电成为第一家实现浸入式量产的公司，而阿斯麦也收获了看家产品。

在不断改进高 NA 镜头、光刻胶、多光照等技术的基础上，阿斯麦把光刻机使用的波长从英特尔时代的 193nm ，降低到 22nm ，并成功开发出 EUV 光刻机，实现 7nm、 5nm 芯片的量产。

【阿斯麦|为了「烧钱」竟把客户变股东，这家小镇企业如何成为全球第一？】

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正是因为长期卡在 193nm 无法前进，英特尔才被称为「牙膏厂」

阿斯麦渐进式改革的成功，同时也意味着尼康的失败。

当时， 13.5nm 波长对于全球来说都是不可逾越的障碍，更何况尼康全力以赴的 0.004nm ，光刻机的量产所追求的不仅仅是技术领先，还有量产的时间领先。尼康追求的跨度太大，所需要的时间、财力都不是渐进式发展的浸入式光刻机能比拟的。

当台积电已经将浸入式光刻机投入使用，不断给阿斯麦提供测试和改进数据时，尼康仍然执着于不成熟的产品，只能眼看着客户逐渐流失。至于原本的种子选手佳能，还在坚信一款好产品可以卖很久，300多、 200多 nm 的芯片仍然是主打产品。日本半导体产业链已不复 1980、 1990 年代的荣光。

反观阿斯麦，2001 年，为了拿到一些关键技术专利，阿斯麦四处筹钱，买下美国 SVG 光刻机公司，借机真正跻身美国半导体产业链上游。为了更专注搞研发，阿斯麦推出一项「股东优先购买计划」：新品研发成功后，阿斯麦的股东企业们有优先购买权，换句话说，阿斯麦的客户们要想提前享受新技术的红利，就必须拿出真金白银作为支持。