光刻机|传中国研发成功国产28纳米光刻机，实际是搞乌龙了纳米|芯片|it芯片

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近日有传言称中芯国际全国产28纳米产线已经量产，为华为代工的芯片也已经流片成功这可能吗？首先中芯国际有28纳米生产线，都基本都是美国或者其它国家的半导体生产设备，这肯定受制于人，所以纯国产的28纳米生产线当然好，其中最重要的是光刻机。

其次按照上述传言的说法，那就是中国研发成功了28纳米光刻机，实际当然不是如此，中国光刻机技术最强的上海微电子，目前只研发出90纳米的光刻机，一直想研发制造28纳米芯片的光刻机，预计2021年会交货，但最起码2022年才能在芯片厂达成量产。即便如此上海微电子的这个光刻机技术也不能完全“去美”化。

但为何会有中国研发成功28纳米光刻机的传言呢？是因为最近有另外一个传言，即中国最大电子企业集团公司之一、中国电科推出了28纳米离子注入机，名称像是针对28纳米生产的，但离子注入机和光刻机还不是一回事。决定芯片良品率高低的因素有很多，最重要的光刻机，而光刻机的一个环节又是离子注入环节，而在离子注入环节中担任“总指挥”的是离子注入机。

【光刻机|传中国研发成功国产28纳米光刻机，实际是搞乌龙了】

离子注入机在芯片制造过程中主要负责对芯片进行电离子改造，按照预定方式改变材料的电性能。在光刻机对芯片进行曝光生产前，离子注入机对硅片进行不同元素掺杂，能够提高芯片的集成度、良品率和寿命。简单来说离子注入机在芯片制程中起到了优化硅片、提高芯片性能的作用。

我国以前在离子注入机技术方面也很差，这就对光刻机的研发有很大制约，所以搞定了28纳米离子注入机技术，对研发28纳米光刻机有利，但不能等同于光刻机。一个光刻机最起码几万个零部件，据悉离子注入机技术只占光刻机技术的3%左右。