外媒：“危机”已经慢慢靠近ASML！外媒：“危机”已经慢慢靠近

外媒：“危机”已经慢慢靠近ASML！
目前制造芯片难以离开光刻机， ASML作为唯一能够生产EUV光刻机的厂商，配合上用于成熟工艺的DUV光刻机，几乎垄断了中高端市场，这也是这家顶级设备厂商的优势所在。
作用于先进工艺的EUV光刻机，早在三年前就不被允许出货给中企，在不断升级的芯片规则之下，就连外企也不被允许将其带入大陆的工厂，而老美目前还在促成DUV光刻机的进一步限制。

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在芯片法案发布之前，老美曾找到ASML商讨，试图将对于光刻机的限制范畴，从原本的EUV升级到DUV范围，显然负责人知道针对的是中国市场，直接拒绝了老美。
并且发出了警告：“限制DUV光刻机给中企，将会导致全球半导体产业链中断！”双方的态度都非常的强硬，自然就处于谈不拢的状态了，然而主动权是掌握在老美手上的，自然就开始了“先发制人” 。

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在全新的芯片法案中，老美特别强调了一条：“先进工艺调整为28nm以下！”也就意味着能够利用DUV光刻机生产的14nm芯片，将会被划定到先进工艺的范畴，很可能导致ASML失去DUV光刻机的自由出货权。
危机正在靠近
在台积电、ASML相继“反水”之后，老美又打算重启日本半导体产业了，除了宣布联合日企研发2nm工艺之外，也在最大程度上放开了对于日企的限制，这也注定在市场上会掀起一股风浪。
DUV光刻机自由出货的问题还没解决，后面已经开始有了“追兵” ，佳能、尼康作为光刻机的鼻祖，之前一直被老美压制着，这才导致在技术上难以精进，如今限制被解除了，针对光刻机它们有了进一步的规划。

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虽然无法往高端领域去发展，但佳能和尼康在中低端领域，却依然有着十足的竞争力，在全球市场份额上占比不小，得到彻底释放的两家企业，目前也正式对外官宣，将全力驻足于光刻机市场。
目前佳能已经对外官宣，将会在2023年上市新一代的3D半导体封装光刻机，进一步巩固市场的地位，而佳能联合美企推出的NIL工艺，已经被证实可以在不使用EUV光刻机的情况下，实现5nm芯片的制造。

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除了在芯片工艺上发展之外，尼康也将在光刻机市场上发力，其宣称要在2026年实现出货量的倍增，并且将会大力布局中国市场，向中企提供更多的光刻设备，从而摆脱对于美企的依赖。
对于目前的中国光刻机市场而言，主要的需求在于中低端市场，而佳能、尼康正好符合相应的需求，如果这两家企业能够同时为中企提供相应的设备，也能够很好的打破ASML的垄断地位，还能顺势把设备价格打下来。

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而ASML顶尖的EUV光刻机，想要出货给中企基本无望了，如今又面临DUV光刻机进一步被限制，想要留住中国市场可就难了，经过对现状的分析，外媒并不看好ASML ，表态：“危机已经在靠近了”！
【外媒：“危机”已经慢慢靠近ASML！】ASML所面临的困境
在进入到2022年之后， ASML渴望恢复的自由出货，并没有得到任何的进展，接二连三面临的问题，对其后续的发展而言，无疑是雪上加霜,也的确“危机”正在一步步靠近。