拼多多|从“造不如买”到集中力量攻坚，中国离7nm光刻机还有多远？( 二 ) 小米科技|雷军|小米手机

同年，中国的清华大学团队和华卓精科成功研发了光刻机双工作台系统样机，至此中国光刻机技术水平达到除ASML外的“外国”同步水平。
然而就在2019年，美国突然宣布对华为实施制裁，并且将制裁范围从芯片扩展至其他更多的领域，光刻机对华销售也在其中。而此时的中国，小于5nm的芯片晶圆只能依靠ASML的EVU光刻机生产，迫于美国的压力，荷兰只能妥协，中国因此迎来光刻机发展的第三次“卡脖” 。

虽然迫于美国的压力，荷兰无法向中国出售先进制程的光刻机，但庞大的中国市场，让ASML无法拒绝其诱惑力，数据统计显示，在2022年第一季度， ASML共交付62台光刻机，其中21台DUV都成功销往中国。
【“求人”不如“求己”】
回顾中国的半导体行业，光刻机的技术发展历程可谓是曲曲折折，但这也无时无刻在警醒着中国，不能长期靠“外来力量” ，究其根本还是要靠自己。

注：图片来自仪器信息网
然而自主研发光刻机并非想象中那么简单。据数据显示，制造一台光刻机的精密零件需求为数万颗，而世界目前最先进的极紫外EVU光刻机则需要零件多达十多万。
如此多的数目以及极其精密的数据要求，就成为了光刻机最根本的需求基础，因此传统的制造基础便成为了光刻机技术突破的基础产业要求之一。
其次，就算拥有了精密的零件制造业基础，在光学系统、组装技术等知识、技术等方面也是如今光刻机技术突破的一大难题，因为这一系列的技术知识关乎着一个光刻机能否正常运行以及生产和产出。
虽然中国随着近代发展，新兴产业在大量扩展，但是基层技术知识与创新理念却并未进行细耕，也就导致中国的光刻机技术出现一定的差距，这也就成为了目前中国光刻机技术想要进一步突破的关键。
现如今中国无论从技术还是政策，全方面支持鼓励科研发展，无论从基础还是理念知识，一系列的相关产业链正在逐步完善，总之，中国的光刻机技术能否取得进一步突破的问题，相信时间会给出答案。
【参考资料】
1.《为了国家需要多次“转行” ，他造出我国第一台光刻机！》科技日报
2.《为什么半导体行业值得投资？》嘉实基金
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