极紫外光刻|EUV光刻机之后，新的反击来了，外媒：果然不出所料( 二 ) 光刻机|软件|芯片|it芯片

【极紫外光刻|EUV光刻机之后，新的反击来了，外媒：果然不出所料】
而对于EDA软件不可否认，其的确有技术难度，但是更大的难度是在人才缺失、资金投入和上下游产业链的支撑，这一点在2019年之前可以说是很大困难，毕竟新思科技、楷登电子和Siemens已经拥有了成熟的生态和软件，国内的EDA巨头的确很难竞争，这就是巨头企业的实力，但是如今局面不一样了，我们大力扶持和鼓励国产企业的崛起，所以对应的人才、研发资金和产业链配合都会变得更加容易，所以这也会让EDA软件的突破变得更容易，至少要比研发EUV光刻机容易很多。
而面对着这一次南京申报EDA创新中心，外媒方面也是传出评论表示， “国产不出所料， EUV光刻机被管制时，中科院就开始蓄力突破，这一次芯片法案对准EDA软件后，必定会对EDA软件有一系列的反击行动” 。

其实，这的确都是必然的结果，如今我们对于整个芯片产业链都构建起了一整套产学研的生态网络，从教育层面上，清华等一批高校都开设了集成电路学院，加速半导体领域的顶尖人才的培养，研究方面，中科院早早就在整个芯片产业链中进行布局，并初见成效，特别是在EDA软件方面。至于产业方面，国内的芯片技术企业也在加速推进和高校的技术合作，加快从技术从实验室到工厂的进度。

在这样的布局之下，除了EUV光刻机可能还需要3到5年时间来突破之外，其他方面其实难度并没有那么大。
你看好我们在EDA领域的布局吗？你觉得后面老美还有办法继续阻碍我们芯片技术的发展吗？

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