微信|“底牌”打完了？光刻机限制失效后，老美打起了3nm工艺的主意( 二 ) 微信

但目前国际的主流需求，超过90%都源自于成熟工艺，除了手机之类的智能设备才会用到先进工艺，主要完成了成熟工艺的自主化，那一切的问题也就迎刃而解了，因此这一系列的限制也可以说失效了。
而老美一下子把“底牌”全打出来了，更像是最后的疯狂，采用常规的方法，显然已经限制不到国内半导体产业的发展了，如果在有个5~10年的时间，可能也就真的如ASML所说的，一切自以为先进的技术都将失效。

从限制美企芯片出口，再到控制ASML限制光刻机出口，包括此前想要收购ARM架构，最终是EDA设计软件的限制，老美能够想到的办法几乎用了个遍，但显然并没有达到想要的效果。
目前中企自研芯片的道路，已经越来越顺畅了，国产的EDA软件也已经诞生，虽然并不是那么好用，但也是一个良好的开端了，而龙芯100%自研的LoongArch架构已经应用于市场，在开源架构RISC-V上也持续发力了，完整的产业链在逐步搭建中。

【微信|“底牌”打完了？光刻机限制失效后，老美打起了3nm工艺的主意】我们也逐渐从被动转变为主动，越是限制我们越是前进，历来都是只要中国想要突破的技术，到最终一定都可以实现弯道超车，对此你们是怎么看的呢？