光刻机|EUV光刻机关键技术被突破，ASML地位不保？还是要理性看待差距阿斯麦尔|芯片

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自从台积电真的断供华为，让其无高端芯片可用后，我们真的是不再抱有任何幻想。对于核心的芯片技术，只有掌握在自己手里才可靠，否则随时都有可能被卡脖子。 【光刻机|EUV光刻机关键技术被突破，ASML地位不保？还是要理性看待差距】面对美国的无理打压，国内很多企业都表示将投入巨资来研发芯片，包括阿里、小米、格力等巨头，以及其它很多芯片企业加入，一时间国内芯片行业欣欣向荣。在这里面表现最好的还是中芯国际，据其联席首席执行官梁孟松所说， 7nm的研发工作已经完成。

然而，迈过了这道坎，却又迎来了另外一道坎， ASML的EUV光刻机却不卖给我们，背后又是美国在捣鬼。没有EUV光刻机，即使我们的制程达到了3nm也没用，根本就无法量产。
怎么办？还是得靠自己。过去两年来，接连看到看到类似“ASML坐不住了” ， “ASML扛不住了” ， “ASML再见了”的自媒体文章，点进去一看都是标题党，自我安慰。不过，也确实有一些实现了技术突破。
就在前段时间，南京大学研究出了宽禁带半导体pn结型EUV探测器。探测器是制造光刻机的一个关键零部件，之前使用的都是Si基紫外探测器，这种探测器存在不少缺陷，特别是对于顶尖的EUV光刻机，需要更好的技术。

如今这项技术被我国的研究团队所突破，未来将会使用在新一代光刻机上面。很多网友看到这项成果后，就认为我们也将可以生产EUV光刻机了， ASML地位将不保了，垄断要被打破了。
在光刻机关键技术上实现了突破，确实是一件值得高兴的事情，但我们还是要理性看待国内光刻机和ASML的差距。 ASML是全球最先进的光刻机制造商，其生产的EUV光刻机可以用于3nm的量产。而国内光刻机规模最大的制造商是上海微电子集团，仍然在28nm阶段，差距还是非常大。
目前，全球高端光刻机市场基本被ASML垄断。 2021年ASML营收186.11亿欧元，每台EUV光刻机售价高达1.5亿欧元。对于这样一个利润丰厚的市场，谁都眼馋。因此，不少企业都在加紧技术研发，寻找替代EUV光刻机的设备。

佳能、铠侠等厂商就联合研发了NIL工艺，在不需要EUV光刻机的情况下，也能达到5nm 。还有华为在进行光电芯片的研发，苹果、英特尔都在自研芯片封装技术，俄罗斯投入巨资想研发X射线光刻机。
不过，想超越或者取代ASML光刻机，没那么容易。中国工程院院士，著名集成电路专家吴汉明就说过，光刻机是全球化的结晶，光靠一个国家做不出来。
首先，光刻机的零部件有10多万个，非常复杂，供应商就有5000多家，来自全球40多个国家。其中来自荷兰本土的就有1600个，欧美其它国家的也有不少，亚洲的供应商也有上千家，但大多数来自日本、韩国、中国台湾，至于中国大陆没有看到公布的数据。

其次，一台光刻机需要很多技术，而且也来自世界各国，比如瑞典的轴承和数控机台、德国机械工艺和蔡司镜头、美国的光源设备和激光等等，这些顶级技术，我们还不掌握，或者有比较大的差距。美国之所以对ASML有那么大的话语权，就是因为很多技术来自美企。