光刻机|EUV光刻机关键技术被突破,ASML地位不保?还是要理性看待差距

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光刻机|EUV光刻机关键技术被突破,ASML地位不保?还是要理性看待差距

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光刻机|EUV光刻机关键技术被突破,ASML地位不保?还是要理性看待差距

自从台积电真的断供华为 , 让其无高端芯片可用后 , 我们真的是不再抱有任何幻想 。 对于核心的芯片技术 , 只有掌握在自己手里才可靠 , 否则随时都有可能被卡脖子 。 【光刻机|EUV光刻机关键技术被突破,ASML地位不保?还是要理性看待差距】面对美国的无理打压 , 国内很多企业都表示将投入巨资来研发芯片 , 包括阿里、小米、格力等巨头 , 以及其它很多芯片企业加入 , 一时间国内芯片行业欣欣向荣 。 在这里面表现最好的还是中芯国际 , 据其联席首席执行官梁孟松所说 , 7nm的研发工作已经完成 。

然而 , 迈过了这道坎 , 却又迎来了另外一道坎 , ASML的EUV光刻机却不卖给我们 , 背后又是美国在捣鬼 。 没有EUV光刻机 , 即使我们的制程达到了3nm也没用 , 根本就无法量产 。
怎么办?还是得靠自己 。 过去两年来 , 接连看到看到类似“ASML坐不住了” , “ASML扛不住了” , “ASML再见了”的自媒体文章 , 点进去一看都是标题党 , 自我安慰 。 不过 , 也确实有一些实现了技术突破 。
就在前段时间 , 南京大学研究出了宽禁带半导体pn结型EUV探测器 。 探测器是制造光刻机的一个关键零部件 , 之前使用的都是Si基紫外探测器 , 这种探测器存在不少缺陷 , 特别是对于顶尖的EUV光刻机 , 需要更好的技术 。

如今这项技术被我国的研究团队所突破 , 未来将会使用在新一代光刻机上面 。 很多网友看到这项成果后 , 就认为我们也将可以生产EUV光刻机了 , ASML地位将不保了 , 垄断要被打破了 。
在光刻机关键技术上实现了突破 , 确实是一件值得高兴的事情 , 但我们还是要理性看待国内光刻机和ASML的差距 。 ASML是全球最先进的光刻机制造商 , 其生产的EUV光刻机可以用于3nm的量产 。 而国内光刻机规模最大的制造商是上海微电子集团 , 仍然在28nm阶段 , 差距还是非常大 。
目前 , 全球高端光刻机市场基本被ASML垄断 。 2021年ASML营收186.11亿欧元 , 每台EUV光刻机售价高达1.5亿欧元 。 对于这样一个利润丰厚的市场 , 谁都眼馋 。 因此 , 不少企业都在加紧技术研发 , 寻找替代EUV光刻机的设备 。

佳能、铠侠等厂商就联合研发了NIL工艺 , 在不需要EUV光刻机的情况下 , 也能达到5nm 。 还有华为在进行光电芯片的研发 , 苹果、英特尔都在自研芯片封装技术 , 俄罗斯投入巨资想研发X射线光刻机 。
不过 , 想超越或者取代ASML光刻机 , 没那么容易 。 中国工程院院士 , 著名集成电路专家吴汉明就说过 , 光刻机是全球化的结晶 , 光靠一个国家做不出来 。
首先 , 光刻机的零部件有10多万个 , 非常复杂 , 供应商就有5000多家 , 来自全球40多个国家 。 其中来自荷兰本土的就有1600个 , 欧美其它国家的也有不少 , 亚洲的供应商也有上千家 , 但大多数来自日本、韩国、中国台湾 , 至于中国大陆没有看到公布的数据 。

其次 , 一台光刻机需要很多技术 , 而且也来自世界各国 , 比如瑞典的轴承和数控机台、德国机械工艺和蔡司镜头、美国的光源设备和激光等等 , 这些顶级技术 , 我们还不掌握 , 或者有比较大的差距 。 美国之所以对ASML有那么大的话语权 , 就是因为很多技术来自美企 。