光刻机|央视“点名”EUV光刻机，中科院自研设备落地，外媒：闹剧结束芯片|it芯片

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EUV光刻机是高端芯片产线上不可或缺的制造设备，全球只有荷兰光刻巨头ASML能生产，但其产线上却含有超过20%的美国技术与配件，受美“出口管制规则”的约束， ASML始终都无法出口给我们该设备。
若想冲破西方的芯片封锁，摆在我们面前的只有一条路可走，那就是：打破垄断，实现EUV光刻机的国产化。为此，中科院、清北高校等科研机构纷纷入局光刻领域，展开核心技术的自主研发。

然而，没想到的是， ASML对我们自研EUV居然不屑一顾，而且还泼来冷水：即便给中国完整的设计图纸，他们也无法造出EUV ，甚至连“山寨”也做不到。
吴汉明专家也有类似的观点：EUV光刻机单台价值高达1.2亿美元，重达180吨，需要40多个集装箱才能运输，糅合了美国光源、德国蔡司镜头、瑞士数控机床等多项顶尖技术，而且精密零件超过10万个，超过5千家的供应商遍及世界各地，是全球智慧的结晶，仅凭我们一己之力来制造，显然是不现实的。
不可否认， EUV设备相比芯片制造产线上其他设备会更加复杂，但说到底它毕竟也是人造的，何况，在老美毫无底线的打压下，国产半导体哪还有“知难而退”的余地。

面对外界的不看好，中科院偏不信邪，并立下“军令状” ，集中优势力量成立了EUV专项技术攻关科研小组，誓要在最短的时间内实现破冰。
在中国科学家们的不懈努力之下，这段时间，国内市场也不断传出着有关EUV技术突破的好消息，那么现阶段国产EUV的研发究竟进展到哪一步了呢？

据央视报道，国产EUV的核心技术问题基本已经解决，由中科院自主研发的国内首台高能光源设备，安装工作已完成了超过80%、落地在即。另外，中科科美实现了高端镀膜装置的全谱系国产化，包括直线式劳埃透镜与纳米聚焦两款顶尖装置，且均已投入使用，为国产光学镜头的量产提供了可靠的技术支撑。
至此， EUV三大核心技术：“双工件台系统、光源、光学镜头”均已打破海外垄断。
这就是中国科学家们技术攻坚的实力和毅力！要知道EUV被誉为工业之花，美国科学家曾为了调试其中的一个部件，花费了十年的时间，其难度不言而喻，这或许就是ASML不看好我们自研EUV的主要原因，但没想到打脸会来的这么快。

虽然EUV设备还有许多精密零件需要突破，但相比核心技术，这对于有“世界工厂”之称的中国制造市场而言，却容易多了。
跨过了EUV设备这块“绊脚石” ， “中国芯”将自此打通“任督二脉” ，下一步就是大规模的实现量产，冲击高端芯片市场。
目睹我国科学家在EUV核心技术上的突破，一向“马后炮”的外媒也给予了中肯的评价：早有预料，芯片断供只会适得其反，不卖给中国芯片，只会加大他们自给自足的步伐，现在闹剧结束，扰乱全球芯片产业平衡的芯片禁令也该画上句号了。

但事实上，芯片禁令带来的蝴蝶效应还远没有结束。
【光刻机|央视“点名”EUV光刻机，中科院自研设备落地，外媒：闹剧结束】不难推测，在国产EUV落地之后，物美价廉的国产芯片将迅速销往全球各地，而以出口为主的美国高价芯片，或许烂大街都不会再有人要了，对滥用科技霸权的美国来说，这样的代价只能是它自己咎由自取！