原来美国不仅限制中国的企业引进光刻机 , 只要是光刻机 , 不论是哪国的企业都不能引入中国 , 其心险恶程度简直昭然若揭!可最近EUV光刻机时间再次发生了!
原来美国企业对中国的限制工艺是10纳米 , 如今他们开始考虑将原来的十纳米增加到14纳米 , 这就意味着对中国的限制个更强了 。 与此同时 , 美国还对美国企业下达了通知 , 要求各企业立即停止对中国企业14纳米以下的芯片制造设备的供应 。
这样以来还真有中国当时制造核武器时的艰难了!不仅技术封锁 , 连学习的机会都没有了 。 但是中国会被就此打败吗?绝对不可能!我们当时既然能在那么艰难的情况下制造出我们的核武器 , 如今我们依旧能够攻破万难 , 突破技术堡垒 , 造出我们的光刻机和更先进的芯片!
结语:无数血的教训告诉我们 , 只有实现技术自主 , 才能拿到主动权 。
不论是曾经核武器的研发 , 还是如今芯片的研发 。 试想如果中国没有核武器 , 美国难道不会比现在更嚣张吗?如果中国能够自主造出芯片 , 美国又哪里有底气如此嚣张!
【贴膜|外媒:EUV光刻机事件再现了!】归根结底还是一句话“发展才是硬道理”!相信只要我们不断努力 , 补齐短板 , 一定能够回到最强的模样!对此你有什么看法?评论区留言讨论一下吧!
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