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国产半导体产业进入到新的发展阶段 , 制定了一系列的产能目标 , 对有关芯片企业进行大力扶持 。 随着产能的提高 , 对一些半导体设备有了更多的需求 。 于是ASML加大对大陆的出货力度 。
【阿斯麦尔|被ASML猜对了?国产光刻机再传新消息,事关高端DUV】ASML说过 , 中国研发顶级光刻机不是绝对不行 , 物理规则也同样在这里有效 。
而国产光刻机传来新消息 , 事关国产高端DUV 。 怎么回事?ASML猜对了?
01国产光刻机再传新消息
ASML作为全球最大的光刻机厂商 , 向全球客户提供必要的半导体设备 , 以支持芯片生产 。 眼看大陆提高半导体产业发展进程 , 自然不会错过布局大陆市场的机会 。 ASML有多希望在大陆市场深入布局呢?一开始ASML就表示 , 会加快大陆市场的布局 。
后来ASML又表示会中国大陆市场保持开放态度 , 并直言DUV光刻机是能够正常出货的 。
结合ASML的种种表态来看 , 显然有意获得更多大陆客户的订单 。 而正如ASML所愿 , 该公司屡次中标大陆企业的光刻机订单 。 比如今年5月份上海积塔半导体进行半导体设备招标时 , ASML就拿到了三台光刻机 。
不过市场变幻莫测 , 有了EUV光刻机无法自由出货的前车之鉴之后 , 在国产高端DUV光刻机方面 , 该提高自主化时就不能懈怠 。 以免出现未知的情形 , 带来变数 。 所以和ASML保持合作的同时 , 不能完全依赖对方供货 , 自己也要加紧努力 。
而国产光刻机再传新消息 , 根据矩光科技表示 , 公司使用于光刻机的光场匀化器预计会有稳定增长 。
矩光科技是国内半导体供应链厂商 , 在光刻机零部件方面具有一定的供应条件 。 如果矩光科技能在必要的零部件提供装备能力 , 兴许能为高端DUV光刻机的到来提供铺垫 。
光刻机是十分复杂的半导体设备 , 国内暂时能够触及的目标是DUV 。 DUV属于深紫外光 , 在这类光源中又有三大光刻机种类 , 分别是KrF、ArF、ArFi , 最低的波长可以达到193nm 。
DUV光刻机和最顶级的EUV光刻机一代光源 , 虽然不是最先进的 , 但应用的范围不可小觑 。 正所谓适合自己才是最好的 , 国内大部分的芯片需求集中在成熟工艺 。
有9成以上的芯片均采用10nm以上工艺制造 , 如果能解决高端DUV光刻机的整机装备问题 , 无疑是一件好事 。
当然 , 路漫漫其修远兮 , 未来的路还要往前走 , 光刻机这种复杂的系统工程设备是急不得的 。 需要以点破面 , 在每一个核心技术 , 零部件方面都得有长期的积累 。
哪怕是不起眼的零部件 , 都需要刻苦攻关 。 国产光刻机现在的发展情况被ASML猜对了?ASML说过:“中国研发顶级光刻机不是说绝对不行 , 物理规则在中国同样是有效的 。 ”
ASML这句话是否属实需要我们自己验证 , 若ASML认为不可能成功 , 是不是就要听从对方的话 , 选择顺其自然呢?与其看别人怎么说 , 不如看自己怎么做 。 通往未来的同时 , 还需固守本心 , 坚定道路 。
02ASML截然相反的态度
中国大陆是ASML目前最大的市场 , 今年第一季度ASML降低了其它市场的光刻机出货量 , 却提高了大陆的交付订单 。 这说明ASML将大陆市场放在了非常重要的位置 。
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